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1. (WO2010010928) コーティング組成物及びパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/010928    国際出願番号:    PCT/JP2009/063202
国際公開日: 28.01.2010 国際出願日: 23.07.2009
IPC:
G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010054 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MARUYAMA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAIDA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HO, BangChing [--/JP]; (JP) (米国のみ).
HASHIMOTO, Keisuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUJITANI, Noriaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MARUYAMA, Daisuke; (JP).
SAKAIDA, Yasushi; (JP).
HO, BangChing; (JP).
HASHIMOTO, Keisuke; (JP).
FUJITANI, Noriaki; (JP)
代理人: HANABUSA, Tsuneo; (JP)
優先権情報:
2008-191206 24.07.2008 JP
2008-191249 24.07.2008 JP
発明の名称: (EN) COATING COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION DE REVÊTEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) コーティング組成物及びパターン形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a coating composition which is applied to "reversal patterning" and suitable for forming a film which covers a resist pattern. The coating composition for lithography contains an organopolysiloxane, a solvent mainly composed of a specific organic solvent, and a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt; or alternatively the coating composition for lithography contains a polysilane, a solvent mainly composed of a specific organic solvent, and at least one kind of additive selected from the group consisting of crosslinking agents, quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts, sulfonic acid compounds, and the polysilane has a silanol group or a silanol group together with a hydrogen atom at an end.
(FR)L’invention concerne une composition de revêtement qui est appliquée à la « photogravure inversée » et adaptée pour former un film recouvrant un motif de réserve. La composition de revêtement pour lithographie contient un organopolysiloxane, un solvant principalement composé d’un solvant organique spécifique, et un sel d’ammonium quaternaire ou un sel de phosphonium quaternaire ; ou en variante la composition de revêtement pour lithographie contient un polysilane, un solvant principalement composé d’un solvant organique spécifique, et au moins un type d’additif sélectionné dans le groupe constitué par des agents de réticulation, des sels d’ammonium quaternaires, des sels de phosphonium quaternaires, des composés d'acide sulfonique, le polysilane comprenant un groupe silanol ou un groupe silanol formé conjointement avec un atome d’hydrogène à une extrémité.
(JA)【課題】 本発明は、“リバーサルパターニング”に適用され、レジストパターンを被覆する膜を形成するのに好適なコーティング組成物を得ることを課題とする。 【解決手段】 上記課題を解決するため、オルガノポリシロキサン、所定の有機溶媒を主成分とする溶剤、及び第4級アンモニウム塩又は第4級ホスホニウム塩を含むリソグラフィー用コーティング組成物、又はポリシラン、所定の有機溶媒を主成分とする溶剤、及び架橋剤、第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩、スルホン酸化合物からなる群から選択される少なくとも1種の添加物を含み、前記ポリシランはその末端にシラノール基又は該シラノール基と水素原子を有するリソグラフィー用コーティング組成物を用いる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)