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1. (WO2010010846) アクティブマトリクス基板、ディスプレイパネル、表示装置およびアクティブマトリクス基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/010846    国際出願番号:    PCT/JP2009/062922
国際公開日: 28.01.2010 国際出願日: 16.07.2009
IPC:
G09F 9/30 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATSUMURO, Tomonori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKUHARA, Noboru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HASEGAWA, Akira [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MATSUMURO, Tomonori; (JP).
FUKUHARA, Noboru; (JP).
HASEGAWA, Akira; (JP)
代理人: SAKAI, Hiroaki; (JP)
優先権情報:
2008-192607 25.07.2008 JP
発明の名称: (EN) ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, DISPLAY PANEL, DISPLAY DEVICE, AND ACTIVE MATRIX SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD
(FR) SUBSTRAT DE MATRICE ACTIVE, ÉCRAN D'AFFICHAGE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE MATRICE ACTIVE
(JA) アクティブマトリクス基板、ディスプレイパネル、表示装置およびアクティブマトリクス基板の製造方法
要約: front page image
(EN)An active matrix substrate (101A) includes: a transparent substrate (10); transparent wires (LG, LD, LP, L1, L2) formed on the transparent substrate; a transparent semiconductor layer (44) which covers at least a part of the transparent wires; and transparent insulating films (40, 50) which cover at least a part of the wires and the transparent substrate layer (44).  The wires contain main lines (a part of (41)) extending to mutually intersect in the matrix direction and sub lines (a part of (41), (42, 43)) branched from the main lines and connected to elements in respective pixels (101a).  These lines are formed, for example, by using a conductive material such as ZTO and ITO.
(FR)Un substrat de matrice active (101A) comprend : un substrat transparent (10) ; des fils transparents (LG, LD, LP, L1, L2) formés sur le substrat transparent ; une couche semi-conductrice transparente (44) qui couvre au moins une partie des fils transparents ; et des pellicules d'isolation transparentes (40, 50) qui couvrent au moins une partie des fils et de la couche de substrat transparente (44). Les fils comprennent des lignes principales (une partie de (41)) s'étendant de façon à définir entre elles une intersection dans la direction de la matrice et des lignes secondaires (une partie de (41), (42, 43)) branchées à partir des lignes principales et connectées à des éléments dans des pixels respectifs (101a). Ces lignes sont par exemple formées au moyen d'un matériau conducteur, tels ZTO et ITO.
(JA) アクティブマトリクス基板(101A)は、透明基板(10)と、透明基板上に形成された透明な配線(LG,LD,LP,L1,L2等)と、透明な配線の少なくとも一部を覆う透明半導体層(44)と、配線および透明半導体層(44)の少なくとも一部を覆う透明な絶縁膜(40、50)を備える。配線は、行列方向において相互に交差するように延伸する主配線(41の一部等)と、この主配線から分岐して各画素(101a)における素子に接続する副配線(41の一部,42,43等)を含み、これらの配線は、例えばZTOやITOなどの導電体材料を用いて形成される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)