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1. (WO2010010816) 窒化チタン膜の改質方法及び改質装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/010816    国際出願番号:    PCT/JP2009/062461
国際公開日: 28.01.2010 国際出願日: 08.07.2009
IPC:
H01L 27/105 (2006.01), H01L 45/00 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SUGAWARA, Takuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SATO, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SUGAWARA, Takuya; (JP).
SATO, Yoshihiro; (JP)
代理人: ITOH, Tadahiko; (JP)
優先権情報:
2008-189079 22.07.2008 JP
発明の名称: (EN) METHOD AND APPARATUS FOR MODIFYING TITANIUM NITRIDE FILM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR MODIFIER UN FILM DE NITRURE DE TITANE
(JA) 窒化チタン膜の改質方法及び改質装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for modifying a titanium nitride film wherein the specific resistance of a titanium nitride film is increased by irradiating the titanium nitride film formed on a semiconductor substrate with a plasma which is obtained by changing a process gas containing a rare gas or nitrogen but not containing oxygen into a plasma.
(FR)L’invention concerne un procédé permettant de modifier un film de nitrure de titane, la résistance spécifique du film de nitrure de titane étant augmentée en soumettant le film de nitrure de titane formé sur un substrat semi-conducteur à un plasma qui est obtenu en changeant un gaz de traitement contenant un gaz rare ou de l’azote mais pas d’oxygène en un plasma.
(JA) 半導体基板上に形成された窒化チタン膜に対して、希ガスまたは窒素を含み、酸素を含まない処理ガスをプラズマ化して得たプラズマを照射することにより、窒化チタン膜の比抵抗を増加させる、窒化チタン膜の改質方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)