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1. (WO2010010744) 表示装置用基板及び液晶表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/010744    国際出願番号:    PCT/JP2009/057490
国際公開日: 28.01.2010 国際出願日: 14.04.2009
IPC:
G02F 1/1335 (2006.01), G02B 5/08 (2006.01), G02F 1/1343 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01)
出願人: Sharp Kabushiki Kaisha [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka, 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
FUJITA, Tetsuo [JP/--]; (米国のみ).
SAKAI, Takehiko [JP/--]; (米国のみ).
CHIBA, Dai [JP/--]; (米国のみ).
MORIMOTO, Kazunori [JP/--]; (米国のみ).
KATAOKA, Yoshiharu [JP/--]; (米国のみ)
発明者: FUJITA, Tetsuo; .
SAKAI, Takehiko; .
CHIBA, Dai; .
MORIMOTO, Kazunori; .
KATAOKA, Yoshiharu;
代理人: YASUTOMI & Associates; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka, 5320003 (JP)
優先権情報:
2008-188635 22.07.2008 JP
発明の名称: (EN) DISPLAY DEVICE SUBSTRATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 表示装置用基板及び液晶表示装置
要約: front page image
(EN)Provided are a display device substrate capable of preventing the occurrence of damage to a reflection layer in a resist peeling step for patterning the reflection layer, and a liquid crystal display device. The display device substrate which is provided with the reflection layer in a display region comprises a pattern film disposed in a region other than a terminal region, outside the display region and on the same surface side as the reflection layer. The pattern film contains a material that is ionized as easily as the material of the reflection layer or a material that is ionized more easily than the material of the reflection layer.
(FR)La présente invention concerne un substrat de dispositif d'affichage pouvant empêcher une dégradation d'une couche de réflexion au cours d'une étape d'enlèvement d'une réserve destinée à former des motifs sur la couche de réflexion, ainsi qu'un dispositif d'affichage à cristaux liquides. Le substrat de dispositif d'affichage, qui est équipé de la couche de réflexion dans une région d'affichage, comprend une pellicule de motifs disposée dans une région autre qu'une région de bornes, en dehors de la région d'affichage et sur le même côté de la surface que la couche de réflexion. La pellicule de motifs contient un matériau qui s'ionise aussi facilement que le matériau de la couche de réflexion ou un matériau qui s'ionise plus facilement que le matériau de la couche de réflexion.
(JA)本発明は、反射層をパターニングするためのレジスト剥離工程における反射層のダメージの発生を抑制することができる表示装置用基板及び液晶表示装置を提供する。本発明の表示装置用基板は、表示領域に反射層が設けられた表示装置用基板であって、上記表示装置用基板は、端子領域を除いて上記表示領域よりも外側の領域で、かつ上記反射層と同じ面側に配置されるパターン膜を有し、上記パターン膜は、上記反射層の材料とイオン化のしやすさが同じ材料、又は、上記反射層の材料よりもイオン化しやすい材料を含む表示装置用基板である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)