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1. (WO2010010687) 磁気記録媒体製造装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/010687    国際出願番号:    PCT/JP2009/003404
国際公開日: 28.01.2010 国際出願日: 21.07.2009
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), G11B 5/855 (2006.01)
出願人: ULVAC,INC. [JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NISHIHASHI, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MORITA, Tadashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WATANABE, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SATO, Kenji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
UZUMAKI, Takuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TANAKA, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NISHIHASHI, Tsutomu; (JP).
MORITA, Tadashi; (JP).
WATANABE, Kazuhiro; (JP).
SATO, Kenji; (JP).
UZUMAKI, Takuya; (JP).
TANAKA, Tsutomu; (JP)
代理人: IAT WORLD PATENT LAW FIRM; 7th Floor, HULIC Nakano Bldg. 44-18, Honcho 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640012 (JP)
優先権情報:
2008-188466 22.07.2008 JP
発明の名称: (EN) MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FABRICATION DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気記録媒体製造装置
要約: front page image
(EN)A magnetic recording medium is manufactured without the disappearance of the surface of a substrate that comprises a magnetic recording layer by ion milling and without being influenced by the atmosphere. A magnetic recording medium manufacturing device (10) manufactures a magnetic recording medium (70) by implanting an ion beam into a substrate (71) that comprises a magnetic recording layer and removing by ashing the surface of the substrate (80) that comprises the magnetic recording layer after the ion beam is implanted.  The magnetic recording medium manufacturing device comprises an ion implantation chamber (20) for implanting the ion beam into the substrate (71) that comprises the magnetic recording layer coated with a resist film (76) or a metal mask, and an ashing chamber (30) for removing, by ashing with plasma, the resist film (76) or the metal mask of the substrate (71) that comprises the magnetic recording layer coated with the resist film (76) or the metal mask.  The ion implantation chamber (20) and the ashing chamber (30) are coupled in a vacuum state.  The magnetic recording medium manufacturing device is provided with a substrate carrier (60) for carrying the substrate (80) into which the ion beam is implanted from the ion implantation chamber (20) to the ashing chamber (30).
(FR)Un support d'enregistrement magnétique est fabriqué sans faire disparaître la surface d'un substrat qui comprend une couche d'enregistrement magnétique par gravure ionique et sans influence de l'atmosphère. Un dispositif de fabrication de support d'enregistrement magnétique (10) fabrique un support d'enregistrement magnétique (70) en implantant un faisceau d'ions dans un substrat (71) qui comprend une couche d'enregistrement magnétique et en supprimant, par réduction en cendres, la surface du substrat (80) comprenant la couche d'enregistrement magnétique après l'implantation du faisceau d'ions. Le dispositif de fabrication de support d'enregistrement magnétique comprend une chambre d'implantation d'ions (20) pour implanter le faisceau d'ions dans le substrat (71) qui comprend la couche d'enregistrement magnétique recouverte d'un film résistant (76) ou d'un masque en métal, et une chambre de réduction en cendres (30) pour supprimer, par une réduction en cendres par plasma, le film résistant (76) ou le masque en métal du substrat (71) comprenant la couche d'enregistrement magnétique recouverte du film résistant (76) ou du masque en métal. La chambre d'implantation d'ions (20) et la chambre réduction en cendres (30) sont couplées dans un état de vide. Le dispositif de fabrication de support d'enregistrement magnétique comprend un support de substrat (60) pour transporter le substrat (80), dans lequel est implanté le faisceau d'ions, de la chambre d'implantation d'ions (20) à la chambre de réduction en cendres (30).
(JA) イオンミリングによって磁気記録層を有する基板表面が消失することなく、かつ大気の影響を受けずに磁気記録媒体を製造する。  磁気記録層を有する基板71にイオンビームを注入した後、該イオンビーム注入後の磁気記録層を有する基板80の表面をアッシングにより除去して磁気記録媒体70を製造する磁気記録媒体製造装置10であって、レジスト膜76またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板71にイオンビームを注入するイオン注入室20と、レジスト膜76またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板71のレジスト膜76またはメタルマスクを、プラズマによりアッシングして除去するアッシング室30と、を有し、イオン注入室20とアッシング室30とは真空状態で連結されると共に、イオンビーム注入後の基板80をイオン注入室20からアッシング室30に搬送する基板搬送機60を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)