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1. (WO2010007874) 第1膜の改質方法及びこれに用いる酸転写樹脂膜形成用組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/007874    国際出願番号:    PCT/JP2009/061886
国際公開日: 21.01.2010 国際出願日: 29.06.2009
IPC:
G03F 7/095 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: JSR Corporation [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 1058640 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NISHIKAWA Kouji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NISHIKAWA Kouji; (JP)
代理人: KOJIMA Seiji; (JP)
優先権情報:
2008-186554 17.07.2008 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MODIFYING FIRST FILM AND COMPOSITION FOR FORMING ACID TRANSFER RESIN FILM USED THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE MODIFICATION DE PREMIER FILM ET COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE RÉSINE DE TRANSFERT D'ACIDE UTILISÉ POUR CELUI-CI
(JA) 第1膜の改質方法及びこれに用いる酸転写樹脂膜形成用組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for modifying a first film by using a second film.  Particularly disclosed is a method for modifying a first film wherein a pattern can be formed by using a conventional photolithographic process even when the first film to be formed into the pattern contains no acid generator.  A composition for forming an acid transfer resin film which is used in the method is also disclosed.  The modification method comprises, in the following order, a step (I) of forming a second film (20) containing an acid generator on a first film (10) having an acid-cleavable group, a step (II) of generating an acid by exposing the second film (20) through a mask (30), a step (III) of transferring the acid generated in the second film (20) to the first film (10), and a step (IV) of removing the second film (20).
(FR)L'invention porte sur un procédé de modification d'un premier film à l'aide d'un second film. En particulier, l'invention porte sur un procédé pour modifier un premier film, un motif pouvant être formé à l'aide d'un processus photolithographique classique même lorsque le premier film devant être formé dans le motif ne contient pas de générateur d'acide. L'invention porte également sur une composition pour former un film de résine de transfert d'acide qui est utilisé dans le procédé. Le procédé de modification comprend, dans l'ordre suivant, une étape (I) de formation d'un second film (20) contenant un générateur d'acide sur un premier film (10) ayant un groupe clivable par acide, une étape (II) de génération d'un acide par exposition du second film (20) à travers un masque (30), une étape (III) de transfert de l'acide généré dans le second film (20) au premier film (10), et une étape (IV) de retrait du second film (20).
(JA)本発明の目的は、第2膜を用いて第1膜を改質する第1膜の改質方法を提供すること、特に、パターンとなる第1膜に酸発生剤が含有されなくとも既存のフォトリソのプロセスを用いてパターン形成できる第1膜の改質方法及びこれに用いる酸転写樹脂膜形成用組成物を提供することである。即ち、本改質方法は、酸解離性基を有する第1膜10上に、酸発生剤を含む第2膜20を形成する工程(I)と、マスク30を介して第2膜20に露光し、酸を発生させる工程(II)と、第2膜20に発生した酸を第1膜10に転写する工程(III)と、第2膜20を除去する工程(IV)と、をこの順に備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)