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World Intellectual Property Organization
1. (WO2010007725) 調理器用トッププレート

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/007725    国際出願番号:    PCT/JP2009/002690
国際公開日: 21.01.2010 国際出願日: 13.06.2009
C03C 17/36 (2006.01), F24C 15/10 (2006.01), H05B 6/12 (2006.01)
出願人: NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IKEGAMI, Koji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KANAI, Toshimasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IKEGAMI, Koji; (JP).
KANAI, Toshimasa; (JP)
代理人: METSUGI, Makoto; (JP)
2008-187391 18.07.2008 JP
(JA) 調理器用トッププレート
要約: front page image
(EN)A top plate for a cooking device is provided, the top plate having a low transmittance in the visible wavelength region, and a high transmittance in the infrared wavelength region of 3500 to 4000nm. A top plate (1) for a cooking device includes a glass substrate (10), and a laminated film (2) formed on the glass substrate (10), the laminated film (2) including a Si film (11) and a silicon nitride film (12).  In fig. 1, which shows the relationship between the film thicknesses t1 and t2, where t1 and t2 denote the film thickness of the Si film (11) and the film thickness of the silicon nitride film (12) respectively, (t1, t2) fall within the range X formed by sequentially connecting dots (A1) to (A36) with straight lines.
(FR)L’invention concerne une plaque supérieure pour un dispositif de cuisine, la plaque supérieure présentant un facteur de transmission faible dans la région des longueurs d’ondes visibles, et un facteur de transmission élevé dans la région des longueurs d’ondes infrarouges de 3500 à 4000 nm. Une telle plaque supérieure (1) pour dispositif de cuisine comprend un substrat de verre (10), et une pellicule stratifiée (2) disposée sur le substrat de verre (10), la pellicule stratifiée (2) comprenant une pellicule de Si (11) et une pellicule de nitrure de silicium (12).  La Fig. 1 illustre la relation entre les épaisseurs des pellicules t1 et t2, où t1 et t2 représentent respectivement l’épaisseur de la pellicule de Si (11) et l’épaisseur de la pellicule de nitrure de silicium (12), (t1, t2) existant dans la plage X formée en connectant séquentiellement les points (A1) à (A36) avec des lignes droites.
(JA) 可視波長領域における透過率が低く、かつ3500~4000nmの赤外波長領域における透過率が高い調理器用トッププレートを提供する。  調理器用トッププレート1は、ガラス基板10と、ガラス基板10の上に形成されたSi膜11及び窒化ケイ素膜12からなる積層膜2とを備えている。Si膜11の膜厚をt、窒化ケイ素膜12の膜厚をtとしたとき、Si膜の膜厚tと窒化ケイ素膜の膜厚tとの関係を表す図1において、(t、t)が表1で表される点A1~A36を順次直線で結んで形成される範囲X内にあることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)