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World Intellectual Property Organization
1. (WO2010007663) フィルタ複合体及びマスク

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/007663    国際出願番号:    PCT/JP2008/062736
国際公開日: 21.01.2010 国際出願日: 15.07.2008
B01D 39/16 (2006.01), A62B 18/02 (2006.01), B01D 39/14 (2006.01), B32B 5/26 (2006.01)
出願人: ENDO, Mitsushi [JP/JP]; (JP).
SAKAMOTO, Akira [JP/JP]; (JP) (米国を除く全ての指定国)
発明者: ENDO, Mitsushi; (JP)
代理人: SATO, Hideyo; 7th Floor, Nagataya Building 26-1, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
(JA) フィルタ複合体及びマスク
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] By specializing a cleaning function of decomposing a harmful substance and a function of trapping harmful substances such as an organic compound and an inorganic compound and focusing on the innate movements of inspired air and expired air accompanying respiration as well as the utilization of the innate energy thereof, it is intended to provide a complex filter and a mask using this complex filter for systematizing a series of filtration procedures and achieving synergistic effects. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A mask provided with cleaning filters (1b) and (1a) for decomposing an organic compound, each comprising carbon microparticles and anatase titania microparticles that are homogeneously dispersed from the surface of a fiber material toward the deep part thereof, respectively in the expiration and inspiration sides, together with a hydrophilicated moisture-absorbing filter (2) and an electrically charged and water-repellent filter (3) for trapping an inorganic compound which are provided in this order between the above-described filters (1a) and (1b) from the filter (1a) in the inspiration side toward the filter (1b) in the expiration side.
(FR)En spécialisant une fonction de nettoyage pour la décomposition d'une substance nuisible et une fonction de piégeage de substances nuisibles telles qu'un composé organique et un composé inorganique et en se centrant sur les mouvements innés d'air inspiré et d'air expiré accompagnant la respiration ainsi que l'utilisation de l'énergie innée de celle-ci, on vise à proposer un filtre complexe et un masque utilisant ce filtre complexe pour rendre systématique une série de modes opératoires de filtration et obtenir des effets synergiques. A cet effet, l'invention porte sur un masque doté de filtres de nettoyage (1b) et (1a) pour décomposer un composé organique, chacun comprenant des microcapsules de carbone et des microcapsules de titane de type anatase qui sont dispersées de façon homogène à partir de la surface d'une matière fibreuse vers la partie profonde de celle-ci, respectivement dans les côtés expiration et inspiration, conjointement avec un filtre (2) d'absorption d'humidité rendu hydrophile et un filtre (3) chargé électriquement et hydrophobe pour piéger un composé inorganique, lesquels sont disposés dans cet ordre entre les filtres décrits ci-dessus (1a) et (1b), du filtre (1a) dans le côté inspiration vers le filtre (1b) dans le côté expiration.
(JA)【課題】 有害物質を分解浄化させる機能と、有機化合物と無機化合物の有害物質を捕獲する機能の特化を講ずること、および呼吸に伴う吸気と呼気の生得的動作およびこの生得エネルギ利用を重視し、一貫した濾過作業のシステム化を図り、相乗効果を狙って、フィルタ複合体及びそのようなフィルタ複合体を利用したマスクを提供する。 【解決手段】 マスクの呼気側と吸気側に、繊維素材の表面から深部に、カーボン微粒子とアナターゼ型チタニア微粒子とが均一に分散されてこれらの微粒子を含蓄せしめて形成された有機化合物分解浄化フィルタ1b及び1aを、備えると共に、それらのフィルタ1a及び1bの間に、吸気側のフィルタ1a側から呼気側のフィルタ1b側に向けて、親水性化工を施した吸湿フィルタ2と、帯電性を施し、且つ撥水性を持たせた無機化合物捕獲フィルタ3の順に、備えられている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)