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1. (WO2010004888) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/004888    国際出願番号:    PCT/JP2009/061732
国際公開日: 14.01.2010 国際出願日: 26.06.2009
H05B 33/10 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/06 (2006.01)
出願人: Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OTANI Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ENDO Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKAHASHI Nobuaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OTANI Hiroshi; (JP).
ENDO Kiyoshi; (JP).
2008-177706 08.07.2008 JP
(JA) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is an organic EL element fabrication method whereby a plurality of organic EL elements of stable quality are continuously produced on a flexible wide strip support, and wherein patterning is performed in which unnecessary parts of the organic layer are uniformly wiped away with a solvent, which improves problems wherein essential parts of the organic layer are dissolved or irregularities in film thickness, and thus variances in performance, are caused by the scattering or infiltration of solvent or solvent vapor, and thereby eliminates decreased production efficiency. The fabrication method of this invention is a method of fabricating organic EL elements comprising a laminated body made by laminating a cathode, an organic layer that includes at least a light emitting layer made from an organic electroluminescent material, and an anode on a substrate, which method is characterized by comprising a process in which, after the organic layer has been formed, part of the organic layer is wiped away with a solvent in a low-temperature environment, wherein the entire wiping process is performed in a 20°C or lower environment.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication d’éléments électroluminescents (EL) organiques permettant de produire en continu une pluralité d’éléments EL organiques de qualité stable, sur un support à large bande flexible, en réalisant un modelage selon lequel les parties inutiles de la couche organique sont éliminées de manière uniforme avec un solvant. On améliore ainsi les problèmes de dissolution de parties essentielles de la couche organique, d’irrégularités d’épaisseur de film, et donc de différences de performances, qui sont provoquées par la diffusion ou l’infiltration de solvant ou de vapeur de solvant, ce qui empêche une efficacité de production réduite. Le procédé de fabrication selon la présente invention est un procédé de fabrication d’éléments EL organiques comprenant un corps stratifié fabriqué par la stratification d’une cathode, d’une couche organique qui comprend au moins une couche électroluminescente fabriquée à partir d’un matériau électroluminescent organique, et d’une anode sur un substrat. Ledit procédé est caractérisé en ce qu’il comprend un processus dans lequel, après la formation de la couche organique, une partie de la couche organique est éliminée avec un solvant dans un environnement de basse température, l’ensemble du processus d’élimination étant réalisé dans un environnement à 20 °C ou moins.
(JA) 本発明は、有機EL素子において、不要な有機層を溶剤により均一に拭き取り除去しパターニングする際、溶剤や溶剤蒸気の飛散・浸透により、有機層必要部分の溶解や、膜厚の不均一が起こり、性能にバラツキが発生する問題を改善し、生産効率低下を排除し、広幅帯状の可撓性支持体に、品質が安定した複数の有機EL素子を連続的に生産する有機EL素子の製造方法を提供する。本発明の製造方法は、基板上に、陽極、少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層および陰極を積層して成る積層体を有する有機EL素子の製造方法において、当該有機層形成後に、低温環境下にて当該有機層の一部を溶剤により拭き取り除去する工程を有し、前記拭き取り除去する工程全てが20℃以下の環境で行われることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)