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1. (WO2010004780) 感光性平版印刷版材料
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/004780    国際出願番号:    PCT/JP2009/054413
国際公開日: 14.01.2010 国際出願日: 09.03.2009
IPC:
G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01)
出願人: Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 1, Sakura-machi, Hino-shi, Tokyo 1918511 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATSUMURA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MATSUMURA, Toshiyuki; (JP)
優先権情報:
2008-177711 08.07.2008 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PLATE MATERIAL
(FR) MATÉRIAU DE PLAQUE LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性平版印刷版材料
要約: front page image
(EN)The present invention provides a photosensitive lithographic plate material with excellent initial print adaptivity and printing resistance, which is used in a plate making method for manufacturing lithographic plates by removing unexposed parts with a developer containing a water-soluble resin and a surfactant and having a pH in the range of 3.0-9.0, after exposing and recording image information. Said photosensitive lithographic plate material is characterized by the fact that a photosensitive layer containing a sensitizer, a radical generating agent, a polymerizable monomer, and a binder is present on a support having a hydrophilic surface, and the total concentration of methacrylol groups and acryloyl groups contained in the molecules of the polymerizable monomer is from 2.5 to 3.5 mmol/g with respect to the total mass of the photosensitive layer.
(FR)La présente invention porte sur un matériau de plaque lithographique photosensible ayant une excellente adaptabilité d'impression initiale et une excellente résistance à l'impression, qui est utilisé dans un procédé de fabrication de plaques pour fabriquer des plaques lithographiques par le retrait de parties non exposées avec un développeur contenant une résine soluble dans l'eau et un agent tensio-actif, et ayant un pH dans la plage de 3,0-9,0, après exposition et enregistrement d'informations d'images. Ledit matériau de plaque lithographique photosensible est caractérisé en ce qu'une couche photosensible contenant un sensibilisateur, un agent générant des radicaux, un monomère polymérisable et un liant, est présente sur un support ayant une surface hydrophile, et que la concentration totale de groupes méthacryloyle et de groupes acryloyle contenus dans les molécules du monomère polymérisable est de 2,5 à 3,5 mmoles/g par rapport à la masse totale de la couche photosensible.
(JA) 本発明は、画像情報を露光、記録した後、水溶性樹脂、界面活性剤を含有するpHが3.0から9.0の範囲の現像液で未露光部を除去して平版印刷版を作製する製版方法に用いられる感光性平版印刷版材料において、該感光性平版印刷版材料は、親水性表面を有する支持体上に、増感剤、ラジカル発生剤、重合性モノマーおよびバインダーを含有する感光層を有し、かつ重合性モノマーの分子内に含まれるメタクリロイル基とアクリロイル基の合計が、感光層の総質量に対して2.5から3.5mmol/gの濃度であることを特徴とし、初期印刷適性に優れ、かつ耐刷力に優れた感光性平版印刷版材料を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)