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1. (WO2010001971) 水素発生用陰極およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/001971    国際出願番号:    PCT/JP2009/062146
国際公開日: 07.01.2010 国際出願日: 02.07.2009
IPC:
C25B 11/08 (2006.01)
出願人: Asahi Kasei Chemicals Corporation [JP/JP]; 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1018101 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SASAKI, Takeaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUNAKAWA, Akiyasu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUSHITA, Tadashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HACHIYA, Toshinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SASAKI, Takeaki; (JP).
FUNAKAWA, Akiyasu; (JP).
MATSUSHITA, Tadashi; (JP).
HACHIYA, Toshinori; (JP)
代理人: AOKI, Atsushi; (JP)
優先権情報:
2008-174843 03.07.2008 JP
2008-174855 03.07.2008 JP
発明の名称: (EN) CATHODE FOR HYDROGEN GENERATION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) CATHODE POUR GÉNÉRATION D'HYDROGÈNE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 水素発生用陰極およびその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is an excellently durable cathode for hydrogen generation, which has a low hydrogen overpotential and reduced fall-off of a catalyst layer against the reverse current generated when the electrolysis vessel is stopped.  A method for producing the cathode for hydrogen generation is also disclosed.  The cathode for hydrogen generation has a conductive base and a catalyst layer formed on the conductive base, and the catalyst layer contains crystalline iridium oxide, platinum and an iridium-platinum alloy.
(FR)L'invention porte sur une cathode pour génération d'hydrogène, laquelle cathode a une excellente durée de vie, a une surtension d'hydrogène basse et une chute réduite d'une couche de catalyseur vis-à-vis du courant inverse généré lorsque le récipient d'électrolyse est arrêté. L'invention porte également sur un procédé pour produire la cathode pour génération d'hydrogène. La cathode pour génération d'hydrogène a une base conductrice et une couche de catalyseur formée sur la base conductrice, et la couche de catalyseur contient de l'oxyde d'iridium cristallin, du platine et un alliage iridium-platine.
(JA) 水素過電圧が低く、かつ、電解槽停止時に発生する逆電流に対して、触媒層の脱落が少なく耐久性に優れた水素発生用陰極およびその製造方法を提供する。本発明は、導電性基材と該導電性基材の上に形成された触媒層とを有する水素発生用陰極であって、該触媒層中に結晶性酸化イリジウム、白金およびイリジウム-白金合金を含む水素発生用陰極を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)