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1. (WO2010001919) MEMS用感光性樹脂組成物及びその硬化物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/001919    国際出願番号:    PCT/JP2009/062029
国際公開日: 07.01.2010 国際出願日: 01.07.2009
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), C08G 59/68 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
出願人: NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 11-2, Fujimi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1028172 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HONDA Nao [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAI Ryo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IMAIZUMI Naoko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ONO Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HONDA Nao; (JP).
SAKAI Ryo; (JP).
IMAIZUMI Naoko; (JP).
ONO Yoshiyuki; (JP)
代理人: ASAMURA Kiyoshi; (JP)
優先権情報:
2008-173482 02.07.2008 JP
2008-310573 05.12.2008 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR MEMS AND CURED PRODUCT THEREOF
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR DES MICROSYSTÈMES ÉLECTROMÉCANIQUES ET SON PRODUIT DURCI
(JA) MEMS用感光性樹脂組成物及びその硬化物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive resin composition for an MEMS, which comprises (A) a photo-cationic polymerization initiator and (B) an epoxy resin having two or more epoxy groups on average per molecule, wherein the photo-cationic polymerization initiator (A) is a photo-cationic polymerization initiator (A-1) represented by formula (1).
(FR)L'invention porte sur une composition de résine photosensible pour un microsystème électromécanique, qui comporte (A) un initiateur de polymérisation photo-cationique et (B) une résine époxy ayant au moins deux groupes époxy en moyenne par molécule, l'initiateur de polymérisation photo-cationique (A) étant un initiateur de polymérisation photo-cationique (A-1) représenté par la formule (1).
(JA) 光カチオン重合開始剤(A)と1分子中に平均2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)とを含むMEMS用感光性樹脂組成物であって、前記光カチオン重合開始剤(A)が下記式(1): で表される光カチオン重合開始剤(A-1)である、MEMS用感光性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)