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1. (WO2010001782) 露光方法および露光装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/001782    国際出願番号:    PCT/JP2009/061506
国際公開日: 07.01.2010 国際出願日: 24.06.2009
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
出願人: SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ONO Akira [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ONO Akira; (JP)
代理人: FUJISHIMA  Youichiro; (JP)
優先権情報:
2008-172570 01.07.2008 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET DISPOSITIF D'EXPOSITION
(JA) 露光方法および露光装置
要約: front page image
(EN)Provided is an exposure method capable of forming an exposure pattern with a high degree of freedom in the depth direction. Light (L0), for exposure, emitted from a light source (11) becomes a parallel beam (L1). This parallel beam (L1) is diffused by a diffuser (16), and that diffuse light (L3) illuminates a photoresist (32) through a photomask (21). This allows the formation of not only tapered exposure patterns as before, but also exposure patterns such as parabolic shapes, depending on the diffusion angle of the diffuse light (L3) on the photoresist (32).
(FR)L'invention porte sur un procédé d'exposition capable de former un motif d'exposition avec un haut degré de liberté dans la direction de profondeur. La lumière (L0) pour l'exposition, émise par une source de lumière (11), devient un faisceau parallèle (L1). Ce faisceau parallèle (L1) est diffusé par un diffuseur (16), et cette lumière diffusée (L3) éclaire une photorésine (32) à travers un masque photographique (21). Ceci permet la formation non seulement de motifs à exposition effilés comme avant, mais encore de motifs d'exposition tels que des formes paraboliques, en fonction de l'angle de diffusion de la lumière diffusée (L3) sur la photorésine (32).
(JA) 深さ方向に自由度の高い露光パターンを形成することが可能な露光方法を提供する。光源11からの露光用の射出光L0を、平行光束L1とする。また、この平行光束L1を拡散板16によって拡散させ、その拡散光L3を、フォトマスク21を介してフォトレジスト32に照射する。これにより、フォトレジスト32に対する拡散光L3の拡散角に応じて、従来のようなテーパ形状のみならず、例えばパラボリック形状等の露光パターンも形成することが可能となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)