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1. (WO2010001757) 絶縁層用組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/001757    国際出願番号:    PCT/JP2009/061326
国際公開日: 07.01.2010 国際出願日: 22.06.2009
IPC:
C08L 101/02 (2006.01), C08G 18/61 (2006.01), C08G 18/83 (2006.01), C08K 5/00 (2006.01), C08L 83/04 (2006.01), H01B 3/30 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01)
出願人: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAHAGI Isao [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAHAGI Isao; (JP)
代理人: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2008-171155 30.06.2008 JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR INSULATING LAYER
(FR) COMPOSITION DE COUCHE ISOLANTE
(JA) 絶縁層用組成物
要約: front page image
(EN)Provided is a composition for an insulating layer, which can form an insulating layer (for instance, a gate insulating film and a protection layer for a transistor) at a low temperature, and furthermore, can form an insulating layer having excellent withstand voltage.  The composition for an insulating layer includes a first compound composed of a polymeric compound having two or more active hydrogen groups in a molecule, and a second compound composed of a low-molecular compound having two or more groups which generate, in a molecule, a functional group which reacts to the active hydrogen groups by an electromagnetic line or heat.
(FR)L’invention concerne une composition de couche isolante, qui peut former une couche isolante (par exemple, un film isolant une porte et une couche de protection pour un transistor) à température basse et qui peut former par ailleurs une couche isolante qui présente une excellente tension de tenue. La composition de couche isolante comprend un premier composé constitué d’un composé polymère contenant deux groupes hydrogène actif ou plus par molécule, et un second composé constitué d’un composé de poids moléculaire faible contenant deux groupes ou plus qui génèrent, par molécule, un groupe fonctionnel qui réagit avec les groupes hydrogène actif par une ligne électromagnétique ou de la chaleur.
(JA) 本発明は、低温で絶縁層(例えば、トランジスタのゲート絶縁膜や保護層)を形成することが可能であり、しかも優れた絶縁耐圧を有する絶縁層を形成可能な絶縁層用組成物を提供することを目的とする。本発明の絶縁層用組成物は、分子内に活性水素基を2個以上有する高分子化合物からなる第1の化合物と、分子内に電磁線又は熱により活性水素基と反応する官能基を生成する基を2個以上有する低分子化合物からなる第2の化合物とを含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)