WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2010001727) レーザアニール装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/001727    国際出願番号:    PCT/JP2009/061016
国際公開日: 07.01.2010 国際出願日: 17.06.2009
IPC:
H01L 21/268 (2006.01), H01L 21/20 (2006.01)
出願人: IHI Corporation [JP/JP]; 1-1, Toyosu 3-chome, Koto-ku Tokyo 1358710 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KAWAGUCHI Norihito [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWAKAMI Ryusuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NISHIDA Kenichiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IZAWA Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MASAKI Miyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MORITA Masaru [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KAWAGUCHI Norihito; (JP).
KAWAKAMI Ryusuke; (JP).
NISHIDA Kenichiro; (JP).
IZAWA Jun; (JP).
MASAKI Miyuki; (JP).
MORITA Masaru; (JP)
代理人: HOTTA Minoru; (JP)
優先権情報:
2008-170007 30.06.2008 JP
発明の名称: (EN) LASER ANNEALING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE RECUIT LASER
(JA) レーザアニール装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a laser annealing device wherein uneven irradiation of laser light caused by refraction phenomenon of laser light due to temperature fluctuation of inert gas is reduced. A laser annealing device (1) comprises a gas supply unit (10) for supplying inert gas G at least to a laser irradiation region of a body (7) to be processed, and a gas temperature regulator (15) for regulating the temperature of the inert gas G.  The gas temperature regulator (15) regulates the temperature of the inert gas G being supplied to the laser irradiation region such that the temperature difference between the temperature of the inert gas G and the atmospheric temperature of a space (a room R) surrounding the optical path of laser light on the outside of the inert gas supply region is decreased.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de recuit laser dans lequel est réduit un rayonnement irrégulier de la lumière laser provoqué par un phénomène de réfraction de lumière laser dû à une fluctuation de température de gaz inerte. Le dispositif de recuit laser (1) consiste en une unité d'alimentation en gaz (10) destinée à alimenter un gaz inerte (G) au moins à une région d'irradiation laser d'un corps (7) à traiter ; et en un régulateur de température de gaz (15) destiné à réguler la température du gaz inerte (G). Le régulateur de température de gaz (15) régule la température du gaz inerte (G) alimenté à la région d'irradiation laser de telle sorte que la différence de température entre la température du gaz inerte (G) et la température atmosphérique d'un espace (une chambre R) entourant le trajet optique de lumière laser sur l'extérieur de la région d'alimentation en gaz inerte est diminuée.
(JA)【課題】不活性ガスの温度のゆらぎによるレーザ光の屈折現象に起因するレーザ光の照射ムラを低減する。 【解決手段】レーザアニール装置1は、少なくとも被処理体7におけるレーザ照射領域に不活性ガスGを供給するガス供給装置10と、不活性ガスGの温度を調整するガス温調装置15とを備える。ガス温調装置15は、不活性ガスGの温度と、不活性ガスの供給領域の外側であってレーザ光の光路を囲む空間(部屋R)の雰囲気温度との温度差が小さくなるように、レーザ照射領域に供給される不活性ガスGの温度を調整する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)