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1. (WO2010001723) 電源装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/001723    国際出願番号:    PCT/JP2009/060988
国際公開日: 07.01.2010 国際出願日: 17.06.2009
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), H02M 7/5387 (2007.01), H05H 1/46 (2006.01)
出願人: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATSUBARA Shinobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HORISHITA Yoshikuni [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YODA Hidenori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YANAGIYA Yoshio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TODA Takeo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MATSUBARA Shinobu; (JP).
HORISHITA Yoshikuni; (JP).
YODA Hidenori; (JP).
YANAGIYA Yoshio; (JP).
TODA Takeo; (JP)
代理人: SEIGA Patent and Trademark Corporation; 9th Fl., Saisho Bldg., 1-14, Nishi-Gotanda 8-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
優先権情報:
2008-170806 30.06.2008 JP
発明の名称: (EN) POWER SOURCE DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE D’ALIMENTATION
(JA) 電源装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a power source device which can easily homogenize the thickness distribution of a thin film to be formed on a substrate surface, even when a pulse potential is applied in a low frequency to paired targets.  The power source device (E) comprises a first discharge circuit (E1) for applying a predetermined pulse potential alternately in a predetermined frequency to a pair of targets (T1 and T2) contacting a plasma, and a second discharge circuit (E2) for applying a predetermined pulse potential between the ground and the target which is not outputted from the first discharge circuit among the pair of targets.
(FR)L’invention concerne un dispositif de source d’alimentation qui peut facilement homogénéiser la distribution d’épaisseur d’un film fin à former sur une surface de substrat, même lorsqu'un potentiel d'impulsion est appliqué à une faible fréquence à des cibles appariés. Le dispositif de source d'alimentation (E) comprend un premier circuit de décharge (E1) destiné à appliquer un potentiel d'impulsion prédéterminé de façon alternée à une fréquence prédéterminée à une paire de cibles (T1 et T2) contactant un plasma, et un second circuit de décharge (E2) pour appliquer un potentiel d’impulsion prédéterminé entre la masse et la cible qui n’est pas fourni depuis le premier circuit de décharge parmi la paire de cibles.
(JA) 対をなすターゲットに低い周波数でパルス電位を印加するときでも、基板表面に形成すべき薄膜の膜厚分布の均一化を図り易い電源装置を提供する。  本発明の電源装置Eは、プラズマに接触する一対のターゲットT1、T2に対して所定の周波数で交互に所定のパルス電位を印加する第1の放電回路E1と、前記一対のターゲットのうち第1の放電回路から出力されていないターゲットとグランドとの間で所定のパルス電位を印加する第2の放電回路E2とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)