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1. (WO2010001516) スペーサ及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/001516    国際出願番号:    PCT/JP2009/001865
国際公開日: 07.01.2010 国際出願日: 23.04.2009
IPC:
G02F 1/1339 (2006.01), C01B 33/12 (2006.01)
出願人: NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KINOSHITA, Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HANADA, Seiichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KINOSHITA, Jun; (JP).
HANADA, Seiichi; (JP)
代理人: METSUGI, Makoto; 6F, Daido Seimei Bldg. 5-4, Tanimachi 1-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 5400012 (JP)
優先権情報:
2008-172905 02.07.2008 JP
発明の名称: (EN) SPACER AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
(FR) ÉLÉMENT D'ESPACEMENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) スペーサ及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a spacer for a sealing section of a liquid crystal display panel. In the method, an aggregate can be easily removed by means of a sieve. In the method for manufacturing the spacer, fine particles having an average particle diameter of 5-40nm are added to silica beads. The silica beads have an average particle diameter of 0.5-30μm, and 90% or more of the particles have a particle diameter of 0.79-1.26 times the average diameter. The fine particles and the silica beads are mixed, then passed through the sieve.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément d'espacement pour une partie d'étanchéité d'un afficheur à cristaux liquides. Selon ce procédé, un agrégat peut être facilement enlevé au moyen d'un tamis. Ledit procédé de fabrication de l'élément d'espacement consiste à ajouter des particules fines présentant un diamètre moyen compris entre 5 et 40 nm à des billes de silice. Les billes de silice présentent un diamètre moyen compris entre 0,5 et 30 μm, et au moins 90% des particules présentent un diamètre compris entre 0,79 et 1,26 fois le diamètre moyen. Les particules fines et les billes de silice sont mélangées, puis tamisées.
(JA) 本発明は、液晶ディスプレイパネルの封着部のスペーサの製造方法において、篩により凝集体を容易に除去できるようにすることを目的とする。 本発明にかかるスペーサの製造方法は、平均粒径が0.5~30μmであり、90%以上の粒子が平均粒径の0.79~1.26倍の粒子経を有するシリカビーズに、平均粒径が5~40nmの微粒子を添加し、混合した後、篩を通過させることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)