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1. (WO2009131169) 表示装置用Al合金膜、表示装置およびスパッタリングターゲット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/131169    国際出願番号:    PCT/JP2009/058052
国際公開日: 29.10.2009 国際出願日: 23.04.2009
IPC:
G02F 1/1343 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01), H01L 21/3205 (2006.01), H01L 23/52 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01)
出願人: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO [JP/JP]; 10-26, Wakinohama-cho 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo, 6518585 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAI, Junichi; (米国のみ).
NANBU, Akira; (米国のみ).
GOTO, Hiroshi; (米国のみ).
OKUNO, Hiroyuki; (米国のみ).
MIKI, Aya; (米国のみ)
発明者: NAKAI, Junichi; .
NANBU, Akira; .
GOTO, Hiroshi; .
OKUNO, Hiroyuki; .
MIKI, Aya;
代理人: OGURI, Shohei; Eikoh Patent Firm, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo, 1050003 (JP)
優先権情報:
2008-112912 23.04.2008 JP
発明の名称: (EN) Al ALLOY FILM FOR DISPLAY DEVICE, DISPLAY DEVICE, AND SPUTTERING TARGET
(FR) FILM EN ALLIAGE Al POUR DISPOSITIF D’AFFICHAGE, DISPOSITIF D’AFFICHAGE ET CIBLE DE PULVÉRISATION
(JA) 表示装置用Al合金膜、表示装置およびスパッタリングターゲット
要約: front page image
(EN)Disclosed is an Al alloy film for a display device that, even when low-temperature heat treatment is applied, can realize satisfactorily low electric resistance, can realize a satisfactory reduction in contact resistance between the Al alloy film and a transparent pixel electrode connected directly to the Al alloy film, and has excellent corrosion resistance. The Al alloy film is connected directly to a transparent electroconductive film on the substrate in the display device. The Al alloy film comprises 0.05 to 0.5 atomic% of Co and 0.2 to 1.0 atomic% of Ge and satisfies the requirement that the content of Co and the content of Ge in the Al alloy film have a relationship represented by formula (1): [Ge] ≥ -0.25 × [Co] + 0.2 ・・・ (1) In formula (1), [Ge] represents the content of Ge in the Al alloy film, atomic%; and [Co] represents the content of Co in the Al alloy film, atomic%.
(FR)L’invention concerne un film en alliage Al pour un dispositif d’affichage qui, même lorsqu’un traitement thermique à basse température est appliqué, peut réaliser une résistance électrique faible satisfaisante, peut réaliser une réduction satisfaisante de la résistance de contact entre le film en alliage Al et une électrode de pixel transparente connectée directement au film en alliage Al, et présente une excellente résistance à la corrosion. Le film en alliage Al est connecté directement à un film électroconducteur transparent sur le substrat du dispositif d’affichage. Le film en alliage Al comprend 0,05 à 0,5 % atomique de Co et 0,2 à 1,0 % atomique de Ge et satisfait l’exigence selon laquelle la teneur en Co et la teneur en Ge dans le film en alliage Al ont une relation représentée par la formule (1) : [Ge] ≥ - 0,25 × [Co] + 0,2 ・・・ (1) Dans la formule (1), [Ge] représente la teneur en Ge du film en alliage Al, en pourcentage atomique; et [Co] représente la teneur en Co du film en alliage Al, en pourcentage atomique.
(JA) 低温での熱処理を適用した場合でも十分に低い電気抵抗を示すと共に、直接接続された透明画素電極とのコンタクト抵抗が十分に低減され、かつ耐食性に優れた表示装置用Al合金膜を提供する。本発明は、表示装置の基板上で、透明導電膜と直接接続されるAl合金膜であって、該Al合金膜は、Coを0.05~0.5原子%、およびGeを0.2~1.0原子%含有し、かつAl合金膜中のCo量とGe量が下記式(1)を満たす表示装置用Al合金膜に関する。  [Ge]≧-0.25×[Co]+0.2 …(1)  (式(1)中、[Ge]はAl合金膜中のGe量(原子%)、[Co]はAl合金膜中のCo量(原子%)を示す)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)