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1. (WO2009131115) 太陽電池の製造方法,太陽電池の製造装置,及び太陽電池
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/131115    国際出願番号:    PCT/JP2009/057911
国際公開日: 29.10.2009 国際出願日: 21.04.2009
IPC:
H01L 31/04 (2006.01)
出願人: ULVAC, Inc. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa, 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
WATAI, Miwa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAITO, Kazuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOMATSU, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OTA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUROIWA, Shunji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIMIZU, Miho [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: WATAI, Miwa; (JP).
SAITO, Kazuya; (JP).
KOMATSU, Takashi; (JP).
OTA, Atsushi; (JP).
KUROIWA, Shunji; (JP).
SHIMIZU, Miho; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo, 1006620 (JP)
優先権情報:
2008-115976 25.04.2008 JP
発明の名称: (EN) SOLAR CELL MANUFACTURING METHOD, SOLAR CELL MANUFACTURING DEVICE, AND SOLAR CELL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLULE SOLAIRE, DISPOSITIF DE FABRICATION DE CELLULE SOLAIRE ET CELLULE SOLAIRE
(JA) 太陽電池の製造方法,太陽電池の製造装置,及び太陽電池
要約: front page image
(EN)Disclosed is a solar cell manufacturing method in which an anti-reflection film (22) containing a conductive dopant different than that of a silicon substrate (1) which has p-type or n-type conductivity is formed on the silicon substrate (1), the anti-reflection film (22) is heat treated, and the dopant contained in the anti-reflection film (22) is diffused into the silicon substrate (1).
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication de cellule solaire dans lequel un film antireflet (22) contenant un dopant conducteur différent de celui d'un substrat en silicium (1) qui a une conductivité du type p ou du type n est formé sur le substrat en silicium (1), le film antireflet (22) est traité thermiquement, et le dopant contenu dans le film antireflet (22) est diffusé dans le substrat en silicium (1).
(JA) この太陽電池の製造方法は、導電型がp型またはn型であるシリコン基板(1)上に、前記シリコン基板(1)と異なる導電型のドーパントを含む反射防止膜(22)を形成し、前記反射防止膜(22)を熱処理して、前記反射防止膜(22)に含まれるドーパントを前記シリコン基板(1)内に拡散させる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)