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1. (WO2009128501) シリコンの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/128501    国際出願番号:    PCT/JP2009/057653
国際公開日: 22.10.2009 国際出願日: 16.04.2009
IPC:
C01B 33/03 (2006.01)
出願人: TOKUYAMA CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi, Yamaguchi, 7458648 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SAKIDA, Manabu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WAKAMATSU, Satoru [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SAKIDA, Manabu; (JP).
WAKAMATSU, Satoru; (JP)
代理人: SUZUKI, Shunichiro; S.SUZUKI & ASSOCIATES, Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo, 1410031 (JP)
優先権情報:
2008-108203 17.04.2008 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF SILICON
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SILICIUM
(JA) シリコンの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a process for producing silicon, which comprises the steps of: [1] reacting a chlorosilane with hydrogen under heating in a reaction vessel to cause the precipitation of silicon, while discharging an exhaust gas containing a silane oligomer and a silicon micropowder; [2] transporting the exhaust gas discharged in step [1] while keeping the temperature of the exhaust gas at 105°C or higher; [3] supplying the exhaust gas transported in step [2] to a filter at a temperature of 105°C or higher and discharging the exhaust gas from the filter unit at a temperature of 105°C or higher to remove the silicon micropowder from the exhaust gas, thereby producing a mixed gas containing hydrogen and the silane oligomer; [4] cooling the mixed gas produced in step [3] to separate hydrogen in the form of a gas from the mixed gas; and others.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication de silicium, qui comprend les étapes consistant à : [1] faire réagir un chlorosilane avec de l'hydrogène sous chauffage dans une cuve de réaction pour amener la précipitation de silicium, tout en évacuant un gaz de combustion contenant un oligomère de silane et une micropoudre de silicium ; [2] transporter le gaz de combustion évacué à l'étape [1] tout en maintenant la température du gaz de combustion à 105°C ou plus ; [3] adresser le gaz de combustion transporté à l'étape [2] à un filtre à une température de 105°C ou plus et faire sortir le gaz de combustion de l'unité de filtration à une température de 105°C ou plus pour éliminer la micropoudre de silicium du gaz d'échappement, ce qui permet ainsi de produire un gaz mélangé contenant de l'hydrogène et l'oligomère de silane ; [4] refroidir le gaz mélangé produit à l'étape [3] pour séparer l'hydrogène sous la forme d'un gaz à partir du gaz mélangé ; et autres.
(JA) 発明に係るシリコンの製造方法は、反応容器内でクロロシラン類と水素とを加熱下で反応させて、シリコンを析出させるとともに、水素、シラン類オリゴマーおよびシリコン微粉を含む排ガスを排出させる工程[1]、前記工程[1]より排出された排ガスを105°C以上の温度に維持しながら搬送する工程[2]、前記工程[2]より搬送された排ガスを、105°C以上の温度でフィルタに供給し、かつ、105°C以上の温度でフィルタ装置から排出せしめ、当該排ガスからシリコン微粉を除去して、水素およびシラン類オリゴマーを含む混合ガスを得る工程[3]、前記工程[3]より得られた混合ガスを冷却し、該混合ガスから水素をガスとして分離する工程[4]などを含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)