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1. (WO2009128405) 光学表示装置製造システム及び光学表示装置製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/128405    国際出願番号:    PCT/JP2009/057370
国際公開日: 22.10.2009 国際出願日: 10.04.2009
IPC:
G09F 9/00 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01)
出願人: NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka, 5678680 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KITADA, Kazuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YURA, Tomokazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOSHIO, Satoru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAZONO, Takuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KITADA, Kazuo; (JP).
YURA, Tomokazu; (JP).
KOSHIO, Satoru; (JP).
NAKAZONO, Takuya; (JP)
代理人: UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; SHIN-OSAKA MT Bldg. 1, 13-9, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka, 5320011 (JP)
優先権情報:
2008-104964 14.04.2008 JP
2009-082629 30.03.2009 JP
発明の名称: (EN) OPTICAL DISPLAY DEVICE MANUFACTURING SYSTEM AND OPTICAL DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE OPTIQUE
(JA) 光学表示装置製造システム及び光学表示装置製造方法
要約: front page image
(EN)Provided are an optical display device manufacturing system and an optical display device manufacturing method capable of more preferably performing a defect inspection. Based on the result of an inspection performed by an inspection device (30) on an optical display device to which an optical film is attached, the optical display device manufacturing system corrects a defect detection condition in an inspection which defect inspection devices (14, 24) perform on an optical film before being attached to an optical display unit and rejects, based on the corrected detection condition, an optical film including defects detected by the defect inspection devices (14, 24). This makes it possible to adjust the criteria of the defect inspection performed by the defect inspection device (14, 24) in accordance with the criteria of a defect inspection to be performed by the inspection device (30) later, so that the defect inspection can be more preferably performed and the yield of the optical films can be improved.
(FR)L'invention porte sur un système de fabrication de dispositif d'affichage optique et sur un procédé de fabrication de dispositif d'affichage optique, capables d'effectuer de façon davantage préférable une inspection de défauts. En fonction du résultat d'une inspection effectuée par un dispositif d'inspection (30) sur un dispositif d'affichage optique auquel est fixé un film optique, le système de fabrication de dispositif d'affichage optique corrige une condition de détection de défauts d'une inspection que des dispositifs d'inspection de défaut (14, 24) effectuent sur un film optique avant sa fixation à une unité d'affichage optique, et rejette, en fonction de la condition de détection corrigée, un film optique comprenant des défauts détectés par les dispositifs d'inspection de défauts (14, 24). Ceci permet d'ajuster les critères de l'inspection de défauts effectuée par le dispositif d'inspection de défauts (14, 24) en fonction des critères d'une inspection de défauts devant être effectuée par le dispositif d'inspection (30) par la suite, de telle sorte que l'inspection de défauts peut être effectuée de façon davantage préférable et que le rendement de production des films optiques peut être amélioré.
(JA) 欠点検査をより好適に行うことができる光学表示装置製造システム及び光学表示装置製造方法を提供する。検査装置30により行われる光学フィルムが貼り合せられた光学表示装置の検査結果に基づいて、欠点検査装置14,24により行われる光学表示ユニットに貼り合せられる前の光学フィルムの検査における欠点の検出条件を補正し、その補正した検出条件に基づいて欠点検査装置14,24により検出した欠点を含む光学フィルムを、排除する。これにより、後に検査装置30により行われる欠点検査の基準に合わせて、欠点検査装置14,24により行われる欠点検査の基準を調整することができるので、欠点検査をより好適に行うことができ、光学フィルムの歩留りを向上することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)