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1. (WO2009128369) 感光性樹脂組成物及びその積層体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/128369    国際出願番号:    PCT/JP2009/057139
国際公開日: 22.10.2009 国際出願日: 07.04.2009
IPC:
G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01), H05K 3/18 (2006.01)
出願人: Asahi Kasei E-materials Corporation [JP/JP]; 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo, 1018101 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NISHIMOTO, Hideaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NISHIMOTO, Hideaki; (JP)
代理人: AOKI, Atsushi; SEIWA PATENT & LAW, Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1058423 (JP)
優先権情報:
2008-105011 14.04.2008 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND LAYERED OBJECT OBTAINED THEREWITH
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET OBJET STRATIFIÉ OBTENU AVEC CELLE-CI
(JA) 感光性樹脂組成物及びその積層体
要約: front page image
(EN)A photosensitive-resin layered object is provided in which the photosensitive resin layer, even when having a thickness as small as 3-15 µm, has satisfactory tenting properties. The layered object includes a supporting layer, which does not peel off unintentionally, i.e., has a satisfactory peel strength. A photosensitive resin composition is also provided which comprises the following: (a) 20-90 mass% alkali-soluble resin, (b) 5-75 mass% compound having a photopolymerizable unsaturated double bond, and (c) 0.1-20 mass% photopolymerization initiator. The composition is characterized in that the compound having a photopolymerizable unsaturated double bond (b) comprises a compound represented by the following general formula (I): (I) {wherein R1, R2, R3, and R4 each independently is H or CH3; R5's each independently is propyl or butyl; n1+n2+n3+n4 is an integer of 21-50; and m1+m2+m3+m4 is an integer of 0-19 (the remainder being omitted)}.
(FR)L’invention concerne un objet stratifié de résine photosensible dans lequel la couche de résine photosensible, même lorsqu’elle a une épaisseur si faible qu’elle est comprise entre 3 à 15 µm, a des propriétés anti-plissage satisfaisantes. L’objet stratifié comprend une couche de support, qui ne se pèle pas involontairement, c’est-à-dire qui a une résistance au pelage satisfaisante. Une composition de résine photosensible est également fournie et comprend les éléments suivants : (a) 20 à 90 % en masse de résine soluble dans l’alcali, (b) 5 à 75 % en masse de composé comportant une double liaison insaturée photopolymérisable, et (c) 0,1 à 20 % en masse d’initiateur de photopolymérisation. La composition est caractérisée en ce que le composé comportant une double liaison insaturée photopolymérisable (b) comprend un composé représenté par la formule générale (I) suivante : (I) {où R1, R2, R3 et R4 sont chacun indépendamment H ou CH3 ; R5 sont chacun indépendamment un groupe propyle ou butyle ; n1+n2+n3+n4 est un nombre entier compris entre 21 et 50 ; et m1+m2+m3+m4 est un nombre entier compris entre 0 et 19 (le reste étant omis)}.
(JA) 本発明により、感光性樹脂層の厚さが3~15μmと薄い場合でも、テント性が良好であり、かつ、支持層が意図せずに剥がれない、すなわち、支持層の十分な引き剥がし強度を有する感光性樹脂積層体が提供される。本発明に係る感光性樹脂組成物は、以下の: (a)アルカリ可溶性樹脂20~90質量%、 (b)光重合可能な不飽和二重結合を有する化合物5~75質量%、 (c)光重合開始剤0.1~20質量%、 を含む感光性樹脂組成物であって、前記(b)光重合可能な不飽和二重結合を有する化合物として、下記一般式(I): {式中、R、R、R、及びRは、それぞれ独立に、H又はCHであり、Rは、それぞれ独立に、プロピル基又はブチル基であり、n+n+n+nは、21~50の整数であり、そしてm+m+m+mは、0~19の整数であり(以下、省略)。}で表される化合物含むことを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)