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1. (WO2009128225) 縦型熱処理用ボートおよびそれを用いたシリコンウエーハの熱処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/128225    国際出願番号:    PCT/JP2009/001649
国際公開日: 22.10.2009 国際出願日: 09.04.2009
IPC:
H01L 21/22 (2006.01), H01L 21/324 (2006.01), H01L 21/673 (2006.01)
出願人: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. [JP/JP]; 6-2, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1000004 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOBAYASHI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOBAYASHI, Takeshi; (JP)
代理人: YOSHIMIYA, Mikio; 1st Shitaya Bldg. 8F, 6-11, Ueno 7-chome, Taito-ku, Tokyo 1100005 (JP)
優先権情報:
2008-107733 17.04.2008 JP
発明の名称: (EN) VERTICAL HEAT TREATMENT BOAT AND SILICON WAFER HEAT TREATMENT METHOD USING THE SAME
(FR) NACELLE DE TRAITEMENT THERMIQUE VERTICALE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT THERMIQUE DE TRANCHES DE SILICIUM L'UTILISANT
(JA) 縦型熱処理用ボートおよびそれを用いたシリコンウエーハの熱処理方法
要約: front page image
(EN)Provided is a vertical heat treatment boat which is removably mounted on each supporting section of a boat main body and provided with a support auxiliary member whereupon a substrate to be treated is to be placed. The support auxiliary member has a guide member mounted on a supporting section, and a planar substrate supporting member whereupon the substrate to be treated is to be placed. The guide member has a hole formed on the upper surface, the substrate supporting member is fixed by being inserted and fitted in the hole of the guide member, and the height position of the placing surface of the substrate to be treated is higher than the height position of the upper surface of the guide member. The substrate supporting member is composed of silicon carbide or the like, and the guide member is composed of quartz or the like. Thus, the vertical heat treatment boat which suppresses both Fe contamination transfer and roughening of the silicon wafer rear surface, at the time of performing heat treatment by placing the substrate to be treated, such as a silicon wafer, on the vertical heat treatment boat provided with the support auxiliary member and by using argon or the like, is provided. A silicon wafer heat treatment method using such vertical heat treatment boat is also provided.
(FR)L'invention porte sur une nacelle de traitement thermique verticale qui est montée de façon amovible sur chaque section de support d'un corps principal de nacelle et comprend un élément auxiliaire de support sur lequel un substrat devant être traité peut être placé. L'élément auxiliaire de support comprend un élément de guidage monté sur une section de support, et un élément de support de substrat plan sur lequel le substrat devant être traité peut être placé. L'élément de guidage a un trou formé sur la surface supérieure, l'élément de support de substrat est fixé en étant inséré et ajusté dans le trou de l'élément de guidage, et la position en hauteur de la surface de placement du substrat devant être traité est plus haute que la position en hauteur de la surface supérieure de l'élément de guidage. L'élément de support de substrat est composé de carbure de silicium ou analogue, et l'élément de guidage est composé de quartz ou analogue. Ainsi, la nacelle de traitement thermique verticale obtenue supprime à la fois un transfert de contamination Fe et une rugosification de la surface arrière de la tranche de silicium, au moment d'effectuer un traitement thermique par placement du substrat devant être traité, tel qu'une tranche de silicium, sur la nacelle de traitement thermique verticale munie de l'élément auxiliaire de support et par utilisation d'argon ou analogue. L'invention porte également sur un procédé de traitement thermique de tranches de silicium utilisant une telle nacelle de traitement thermique verticale.
(JA) 本発明は、ボート本体の支持部の各々に着脱可能に装着され、被処理基板が載置される支持補助部材を備えた縦型熱処理用ボートであって、支持補助部材は、支持部に装着されるガイド部材と、被処理基板が載置される板状の基板支持部材とを有し、ガイド部材は上面に穴が形成され、基板支持部材はガイド部材の穴に挿嵌されて定置され、被処理基板の載置面の高さ位置が、ガイド部材の上面の高さ位置よりも高く、基板支持部材は、炭化珪素等からなり、ガイド部材は、石英等からなる縦型熱処理用ボートである。これにより、支持補助部材を備えた縦型熱処理用ボートにシリコンウエーハのような被処理基板を載せてアルゴン等を用いた熱処理を行う際の、シリコンウエーハへのFe汚染転写と、シリコンウエーハ裏面の面荒れの両方を抑制することができる縦型熱処理用ボートおよびそれを用いたシリコンウエーハの熱処理方法が提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)