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1. (WO2009128132) 巻取式真空成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/128132    国際出願番号:    PCT/JP2008/057286
国際公開日: 22.10.2009 国際出願日: 14.04.2008
IPC:
C23C 14/58 (2006.01), C23C 14/14 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01)
出願人: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa, 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YOKOI, Shin [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NOMURA, Tsunehito [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKATSUKA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TADA, Isao [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YOKOI, Shin; (JP).
NOMURA, Tsunehito; (JP).
NAKATSUKA, Atsushi; (JP).
TADA, Isao; (JP)
代理人: OMORI, Junichi; 4th Floor, Matrice Bldg., 2-13-7, Minamiaoyama, Minato-Ku, Tokyo 1070062 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) WINDING VACUUM FILM COATING APPARATUS
(FR) APPAREIL D’APPLICATION DE FILM SOUS VIDE PAR ENROULEMENT
(JA) 巻取式真空成膜装置
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a winding vacuum film coating apparatus in which a heat deformation of a base material caused by leakage charged particles from a neutralization unit can be avoided without increasing the size of the apparatus. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A winding vacuum film coating (deposition) apparatus (10) according to the present invention comprises a charge capture body (25) for capturing a charged particle going from a neutralization unit (23) to a can roller (14) between the can roller (14) for cooling and the neutralization unit (23). Thereby, it is prevented that charged particles leaked from the neutralization unit (23) reaches the can roller (14), fluctuation of the bias potential applied to the can roller (14) for close contact with the base material is suppressed, and an electrostatic force exerted on the base material (12) is held stable. Therefore, because the close contact force between the base material (12) and the can roller (14) is held stable, heat deformation of the base material (12) can be avoided.
(FR)Le problème à résoudre dans le cadre de la présente invention est d’élaborer un appareil d’application de film sous vide par enroulement dans lequel une déformation thermique d’un matériau de base due à des fuites de particules chargées en provenance d’une unité de neutralisation peut être évitée sans augmenter la taille de l’appareil. La solution proposée consiste en un appareil d’application (dépôt) de film sous vide par enroulement (10) qui comprend un corps de capture de charge (25) destiné à capturer une particule chargée, se déplaçant d’une unité de neutralisation (23) vers un rouleau métallique (14), entre le rouleau métallique (14) pour refroidissement et l’unité de neutralisation (23). Il est ainsi possible d’éviter que des fuites de particules chargées provenant de l’unité de neutralisation (23) atteignent le rouleau métallique (14), une fluctuation de la différence de potentiel appliqué sur le rouleau métallique (14) pour un contact intime avec le matériau de base est supprimée, et une force électrostatique exercée sur le matériau de base (12) est maintenue de façon stable. En outre, étant donné que la force de contact intime entre le matériau de base (12) et le rouleau métallique (14) est maintenue de façon stable, la déformation thermique du matériau de base (12) peut être évitée.
(JA)【課題】装置を大型化することなく、除電ユニットからの漏出荷電粒子に起因する基材の熱変形を防止することができる巻取式真空成膜装置を提供する。 【解決手段】本発明に係る巻取式真空成膜(蒸着)装置10は、冷却用キャンローラ14と除電ユニット23の間に、除電ユニット23からキャンローラ14へ向かう荷電粒子を捕捉する電荷捕捉体25を備える。これにより、除電ユニット25から漏出した荷電粒子がキャンローラ14へ到達することを阻止して、キャンローラ14に印加された基材との密着用のバイアス電位の変動を抑止し、基材12に対する静電力を安定に保持する。これにより、基材12とキャンローラ14の間の密着力が安定に保持されるので、基材12の熱変形が防止されることになる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)