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1. (WO2009125769) 光学素子及びその製造方法、光学装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/125769    国際出願番号:    PCT/JP2009/057134
国際公開日: 15.10.2009 国際出願日: 07.04.2009
IPC:
G02B 5/00 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HAMAMURA, Yutaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KADOMATSU, Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKADA, Yasutoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TANI, Yoshiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HAMAMURA, Yutaka; (JP).
KADOMATSU, Kiyoshi; (JP).
TAKADA, Yasutoshi; (JP).
TANI, Yoshiro; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
優先権情報:
2008-099843 08.04.2008 JP
発明の名称: (EN) OPTICAL ELEMENT, PROCESS FOR PRODUCING THE OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL DEVICE
(FR) ELÉMENT OPTIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE L'ÉLÉMENT OPTIQUE ET DISPOSITIF OPTIQUE
(JA) 光学素子及びその製造方法、光学装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is an optical element (21) characterized by comprising a substrate (22) with a fine concave and convex structure (MR) including a number of fine protrusions (CP) provided on both sides thereof, and a film (23) of one or more layers including a metal layer formed on the fine concave and convex structure (MR) formed on one side of the substrate (22). For example, when silicon is used in the substrate (22), the material for the metal layer included in the film (23) is preferably chromium, a chromium-base alloy, titanium, or a titanium-base alloy. The optical element has a high level of light absorption properties in a broad wavelength range from ultraviolet to infrared. Further, contamination of the optical element and optical systems by degassing does not occur. Accordingly, the optical element can be applied to various optical devices.
(FR)La présente invention concerne un élément optique (21) caractérisé en ce qu'il comprend un substrat (22) ayant une fine structure concave et convexe (MR) comportant un certain nombre de fines saillies (CP) situées sur les deux côtés de celle-ci, ainsi qu'un film (23) d'une ou plusieurs couches comportant une couche métallique formée sur la fine structure concave et convexe (MR) se trouvant sur un côté du substrat (22). Par exemple, lorsqu'on utilise du silicium dans le substrat (22), le matériau destiné à la couche métallique contenu dans le film (23) est de préférence du chrome, un alliage à base de chrome, du titane ou un alliage à base de titane. L'élément optique possède des propriétés d'absorption de lumière de haut niveau dans une large plage de longueurs d'ondes allant de l'ultraviolet à l'infrarouge. De plus, il ne se produit aucune contamination de l'élément optique, ni des systèmes optiques suite à un dégazage. Par conséquent, l'élément optique peut être appliqué à divers dispositifs optiques.
(JA) 多数の微小突起(CP)を含む微細凹凸構造(MR)が両面にそれぞれ形成された基板(22)と、前記基板(22)の一方の面に形成された前記微細凹凸構造(MR)上に成膜された金属層を含む1層以上の膜(23)と、を備えたことを特徴とする光学素子(21)。例えば、基板(22)にシリコンを用いた場合、膜(23)が含む金属層の材料は、クロム、クロム系合金、チタン、またはチタン系合金を用いることが好ましい。本発明の光学素子は、紫外域から赤外線域の広い波長範囲において、高い光吸収特性を有する。また、脱ガスによる光学素子や光学系の汚染を引き起こすことがなく、多様な光学装置に適用できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)