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1. (WO2009125697) モールド、その製造方法および転写微細パターンを有する基材の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/125697    国際出願番号:    PCT/JP2009/056732
国際公開日: 15.10.2009 国際出願日: 31.03.2009
IPC:
B29C 33/40 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01), G11B 5/855 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008405 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TSUNOZAKI, Kentarou [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWAGUCHI, Yasuhide [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SANO, Mikihiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TSUNOZAKI, Kentarou; (JP).
KAWAGUCHI, Yasuhide; (JP).
SANO, Mikihiko; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo, 1010035 (JP)
優先権情報:
2008-100552 08.04.2008 JP
発明の名称: (EN) MOLD, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND PROCESS FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING TRANSFERRED FINE PATTERN
(FR) MOULE, PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION, ET PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UN SUBSTRAT COMPORTANT UN MOTIF FIN TRANSFÉRÉ
(JA) モールド、その製造方法および転写微細パターンを有する基材の製造方法
要約: front page image
(EN)A mold is provided which has high light transmission and high releasability and has a fine pattern having a relatively large maximum height. Also provided are: a process for producing the mold; and a process for producing a substrate with a transferred fine pattern using the mold. The mold (10) includes a transparent resin layer (A) (12) constituted of a transparent resin and having chemical bonds based on a functional group (x) in the surface thereof on the interlayer (C) side, an interlayer (C) (14) comprising a fluoropolymer (II) which has a backbone having a fluorinated alicyclic structure and has a reactive group (y) reactive with the functional group (x), and a surface layer (B) (16) comprising a fluoropolymer (I) which has a backbone having a fluorinated alicyclic structure and does not have the reactive group (y), the transparent resin having a glass transition temperature not higher than the glass transition temperatures of the fluoropolymer (I) and the fluoropolymer (II). The fine pattern has a maximum height exceeding the sum of the thickness of the surface layer (B) and the thickness of the interlayer (C).
(FR)L'invention porte sur un moule qui a une transmission de la lumière élevée et une aptitude au démoulage élevée, et qui a un motif fin dont la hauteur maximale est relativement grande. L'invention porte également sur un procédé pour produire le moule ; et sur un procédé pour produire un substrat avec un motif fin transféré à l'aide du moule. Le moule (10) comprend une couche de résine transparente (A) (12) constituée par une résine transparente et comportant des liaisons chimiques fondées sur un groupe fonctionnel (x) à sa surface, sur le côté couche intermédiaire (C), une couche intermédiaire (C) (14) comprenant un polymère fluoré (II) dont le squelette a une structure alicyclique fluorée et qui comporte un groupe réactif (y) pouvant réagir avec le groupe fonctionnel (x), et une couche de surface (B) (16) comprenant un polymère fluoré (I) dont le squelette a une structure alicyclique fluorée et qui ne comporte pas le groupe réactif (y), la résine transparente ayant une température de transition vitreuse qui n'est pas supérieure aux températures de transition vitreuse du polymère fluoré (I) et du polymère fluoré (II). Le motif fin a une hauteur maximale dépassant la somme de l'épaisseur de la couche de surface (B) et de l'épaisseur de la couche intermédiaire (C).
(JA) 光透過性および離型性が高く、かつ最大高さが比較的大きな微細パターンを有するモールド、その製造方法および該モールドを用いた転写微細パターンを有する基材の製造方法を提供する。  ガラス転移温度が含フッ素重合体(I)および含フッ素重合体(II)のガラス転移温度以下である透明樹脂からなり、中間層(C)が形成された表面に官能基(x)に基づく化学結合を有する透明樹脂層(A)12と、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有し、官能基(x)と反応性の反応性基(y)を有する含フッ素重合体(II)からなる中間層(C)14と、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有し、反応性基(y)を有しない含フッ素重合体(I)からなる表面層(B)16とを有し、微細パターンの最大高さが、表面層(B)の厚さと中間層(C)の厚さの合計を超えるモールド10。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)