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1. (WO2009123311) 回折像取得方法、及び荷電粒子線装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/123311    国際出願番号:    PCT/JP2009/056960
国際公開日: 08.10.2009 国際出願日: 03.04.2009
IPC:
H01J 37/22 (2006.01), H01J 37/26 (2006.01), H01J 37/295 (2006.01)
出願人: HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008280 (JP) (米国を除く全ての指定国).
National University Corporation Hokkaido University [JP/JP]; 8, Kita 8-jyo Nishi 5-chome, Kita-ku, Sapporo-shi Hokkaido, 0600808 (JP) (米国を除く全ての指定国).
GOHARA, Kazutoshi; (米国のみ).
DOBASHI, Takashi; (米国のみ).
KOGUCHI, Masanari; (米国のみ).
KAMIMURA, Osamu; (米国のみ).
OHTA, Hiroya; (米国のみ)
発明者: GOHARA, Kazutoshi; .
DOBASHI, Takashi; .
KOGUCHI, Masanari; .
KAMIMURA, Osamu; .
OHTA, Hiroya;
代理人: HIRAKI, Yusuke; Kamiya-cho MT Bldg. 19F, 3-20, Toranomon 4-chome, Minato-ku, Tokyo, 1050001 (JP)
優先権情報:
2008-098562 04.04.2008 JP
発明の名称: (EN) DIFFRACTION IMAGE CAPTURING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE CAPTURE D’IMAGE DE DIFFRACTION ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 回折像取得方法、及び荷電粒子線装置
要約: front page image
(EN)A charged particle beam microscope produces a diffraction image by parallel irradiating a sample (22) having a known structure with a charged particle beam and corrects the variation of the distance (L) dependent on the angle (ϑ) of diffraction between the sample and a detector by measuring the distance (r) reflecting the structure of the sample between the spots shown in the diffraction image. With this, the distortion varying with the off-axis distance from the optical axis shown in the diffraction image is corrected, and a high-accuracy structure analysis is achieved by accurately analyzing the positions of the spots shown in the diffraction image.
(FR)Un microscope à faisceau de particules chargées produit une image de diffraction en irradiant en parallèle un échantillon (22) qui présente une structure connue avec un faisceau de particules chargées, et corrige la variation de la distance (l) en fonction de l'angle de diffraction (θ) entre l'échantillon et un détecteur en mesurant la distance (r) réfléchissant la structure de l'échantillon entre les taches visibles dans l'image de diffraction. Grâce à cela, la distorsion qui varie avec la distance en dehors de l'axe à partir de l'axe optique visible dans l'image de diffraction, est corrigée, et une analyse de structure de grande précision est réalisée en analysant de manière précise les positions des taches visibles dans l'image de diffraction.
(JA) 本発明の荷電粒子線顕微装置は、既知の構造を持つ試料(22)に荷電粒子線を平行に照射して得られる回折像において、試料の構造を反映した回折像のスポット間距離(r)を測定して、回折角度(θ)に依存した試料と検出器間の距離(L)の変化を補正する。 これにより、回折像において光軸からの離軸距離で変化する歪みを補正でき、回折像のスポット位置の正確な解析を行うことにより精度の高い構造解析が可能となった。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)