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1. (WO2009123166) フォトマスクブランクおよびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/123166    国際出願番号:    PCT/JP2009/056603
国際公開日: 08.10.2009 国際出願日: 31.03.2009
IPC:
G03F 1/00 (2012.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo, 1618525 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IWASHITA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHISHIDO, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOMINATO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HASHIMOTO, Masahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IWASHITA, Hiroyuki; (JP).
SHISHIDO, Hiroaki; (JP).
KOMINATO, Atsushi; (JP).
HASHIMOTO, Masahiro; (JP)
代理人: KOBAYASHI, Hiroshi; ABE, IKUBO & KATAYAMA, Fukuoka Bldg. 9th Fl., 8-7, Yaesu 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040028 (JP)
優先権情報:
2008-090249 31.03.2008 JP
発明の名称: (EN) PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
(FR) PLAQUE POUR PHOTOMASQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) フォトマスクブランクおよびその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photomask blank having a multiple-layered light-shield film on a translucent substrate, the outermost surface layer of said light-shield film comprising CrO, CrON, CrN, CrOC or CrOCN, and the surface of the light-shield film having an atomic density of 9x1022atms/cm3 to 14x1022atms/cm3.
(FR)L'invention concerne une plaque pour photomasque présentant un film écran à couches multiples sur un substrat translucide, la couche de surface extérieure dudit film écran comprenant du CrO, du CrON, du CrN, du CrOC ou du CrOCN, et la surface du film écran présentant une densité atomique de 9x1022atms/cm3 à 14x1022atms/cm3.
(JA) 透光性基板上に複数の層からなる遮光膜を有するフォトマスクブランクであって、その最も表面にある層がCrO、CrON、CrN、CrOCまたはCrOCNからなり、前記遮光膜の表面部の原子数密度が9~14×1022atms/cmであるフォトマスクブランク
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)