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1. (WO2009122876) 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/122876    国際出願番号:    PCT/JP2009/054669
国際公開日: 08.10.2009 国際出願日: 11.03.2009
IPC:
H05B 33/10 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/26 (2006.01)
出願人: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo, 1048260 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MORISHIMA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MORISHIMA, Shinichi; (JP)
代理人: SAKAI, Hiroaki; Sakai International Patent Office, Kasumigaseki Building, 2-5, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1006020 (JP)
優先権情報:
2008-091744 31.03.2008 JP
発明の名称: (EN) ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
(FR) ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
要約: front page image
(EN)An organic electroluminescence element is manufactured through a step of forming a first electrode layer on a supporting substrate; a step of forming a light emitting layer on a layer above the first electrode layer; a step of forming a charge injection layer above the light emitting layer; a step of forming a metal layer containing a material selected from among a group composed of aluminum, silver, tin, copper and a composite metal material containing at least two of such elements, on a layer above the charge injection layer; and a step of forming a second electrode layer by depositing an electrode material selected from among a group composed of a transparent conductive oxide, a transparent conductive nitride and a composite material of such oxide and nitride, on a layer above the metal layer by a low-damage sputtering method, an ion plating method or a CVD method.
(FR)La présente invention concerne un élément électroluminescent organique qui est fabriqué par le biais d’une étape qui consiste à former une première couche d’électrode sur un substrat de support ; une étape qui consiste à former une couche électroluminescente sur une couche au-dessus de la première couche d’électrode ; une étape consistant à former une couche d’injection de charge au-dessus de la couche électroluminescente ; une étape consistant à former une couche métallique contenant un matériau sélectionné parmi un groupe composé d’aluminium, d’argent, d’étain, de cuivre et un matériau métallique composite contenant au moins deux de ces éléments, sur une couche au-dessus de la couche d’injection de charge et une étape consistant à former une seconde couche d’électrode en déposant un matériau d’électrode sélectionné parmi un groupe composé d’un oxyde conducteur transparent, d’un nitrure conducteur transparent et d’un matériau composite de cet oxyde et de ce nitrure sur une couche au-dessus de la couche métallique par un procédé de pulvérisation à faible endommagement, un procédé de placage ionique ou un procédé CVD.
(JA) 支持基板上に第一電極層を形成する工程と、前記第一電極層より上層に発光層を形成する工程と、前記発光層より上層に電荷注入層を形成する工程と、前記電荷注入層より上層に、アルミニウム、銀、錫、銅およびこれらの2種以上を含む複合金属材料からなる群より選ばれる材料を含有する金属層を形成する工程と、前記金属層より上層に、透明導電性酸化物、透明導電性窒化物及びこれらの複合材料から選ばれる電極材料を、低ダメージスパッタリング法、イオンプレーティング法、またはCVD法により積層させて前記第二電極層を形成する工程とを経て、有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)