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1. (WO2009122869) 電子材料用Cu-Ni-Si-Co系銅合金及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/122869    国際出願番号:    PCT/JP2009/054563
国際公開日: 08.10.2009 国際出願日: 10.03.2009
IPC:
C22C 9/06 (2006.01), C22C 9/00 (2006.01), C22C 9/01 (2006.01), C22C 9/02 (2006.01), C22C 9/04 (2006.01), C22C 9/10 (2006.01), H01B 1/02 (2006.01), H01B 5/02 (2006.01), C22F 1/00 (2006.01), C22F 1/08 (2006.01)
出願人: Nippon Mining & Metals Co., Ltd. [JP/JP]; 10-1, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo, 1050001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KUWAGAKI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ERA, Naohiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KUWAGAKI, Hiroshi; (JP).
ERA, Naohiko; (JP)
代理人: AXIS Patent International; Yushi Kogyo Kaikan, 13-11, Nihonbashi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo, 1030027 (JP)
優先権情報:
2008-116268 31.03.2008 JP
発明の名称: (EN) Cu-Ni-Si-Co COPPER ALLOY FOR ELECTRONIC MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) ALLIAGE À BASE DE CUIVRE Cu-Ni-Si-Co POUR MATÉRIAU ÉLECTRONIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 電子材料用Cu-Ni-Si-Co系銅合金及びその製造方法
要約: front page image
(EN)A Cu-Ni-Si-Co alloy is provided which has mechanical and electrical properties which render the alloy suitable as a copper alloy for electronic materials. The alloy is even in mechanical properties. This copper alloy for electronic materials contains 1.0-2.5 mass% nickel, 0.5-2.5 mass% cobalt, and 0.3-1.2 mass% silicon, with the remainder being copper and incidental impurities. This alloy has an average crystal-grain diameter of 15-30 µm, and the average difference between a maximum crystal-grain diameter and a minimum crystal-grain diameter for examination fields of view each having an area of 0.5 mm2 is 10 µm or less.
(FR)La présente invention concerne un alliage Cu-Ni-Si-Co qui possède des propriétés mécaniques et électriques qui rendent l'alliage approprié à une utilisation comme alliage à base de cuivre pour matériaux électroniques. L'alliage possède des propriétés mécaniques homogènes. Cet alliage à base de cuivre destiné à être utilisé dans des matériaux électroniques contient 1,0 à 2,5 % en masse de nickel; 0,5 à 2,5 % en masse de cobalt, et 0,3 à 1,2 % en masse de silicium, le reste étant du cuivre et des impuretés secondaires. Cet alliage présente un diamètre de grain cristallin moyen de 15 à 30 µm, et la différence moyenne entre un diamètre de grain cristallin maximum et un diamètre de grain cristallin minimum destiné à des champs d'examen ayant chacun une surface de 0,5 mm2 est inférieure ou égale à 10 µm.
(JA) 電子材料用の銅合金として好適な機械的及び電気的特性を備え、機械的特性の均一なCu-Ni-Si-Co系合金を提供する。Ni:1.0~2.5質量%、Co:0.5~2.5質量%、Si:0.3~1.2質量%を含有し、残部がCu及び不可避不純物からなる電子材料用銅合金であって、平均結晶粒径が15~30μmであり、観察視野0.5mm2毎の最大結晶粒径と最小結晶粒径の差の平均が10μm以下である電子材料用銅合金。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)