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1. (WO2009122753) フォトレジスト組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/122753    国際出願番号:    PCT/JP2009/001559
国際公開日: 08.10.2009 国際出願日: 02.04.2009
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08G 61/02 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; MAINICHI INTECIO. 3-4-5, Umeda, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka, 5300001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TSUTSUMI, Kiyoharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKUMURA, Arimichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TSUTSUMI, Kiyoharu; (JP).
OKUMURA, Arimichi; (JP)
代理人: GOTO, Yukihisa; Minamimorimachi Kyodo Bldg. 2nd Floor, 2-18 Kobai-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka, 5300038 (JP)
優先権情報:
2008-098509 04.04.2008 JP
発明の名称: (EN) PHOTORESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE PHOTORÉSINE
(JA) フォトレジスト組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photoresist composition containing a vinyl ether compound and a polyol compound wherein an aliphatic group and an aromatic group having a plurality of hydroxy groups on an aromatic ring are bonded alternately. The polyol compound can be obtained by an acid catalyst reaction between an aliphatic polyol and an aromatic polyol, for example, by a Friedel-Crafts reaction. An alicyclic polyol is preferable as the aliphatic polyol, while hydroquinone is preferable as the aromatic polyol. The photoresist composition can decrease LER and suppress pattern collapses, while having excellent alkali solubility and etching resistance.
(FR)L'invention concerne une composition de photorésine contenant un composé d'éther vinylique et un composé polyol dans lequel un groupe aliphatique et un groupe aromatique présentant plusieurs groupes hydroxy sur un anneau aromatique sont reliés de manière alternée. Le composé polyol peut être obtenu par une réaction catalytique acide entre un polyol aliphatique et un polyol aromatique, par exemple, par une réaction de type Friedel-Crafts. Un polyol alicyclique est préférable à un polygol aliphatique, tandis que l'hydroquinone est préférable à un polyol aromatique. La composition de photorésine selon l'invention permet de réduire la rugosité de bord de ligne (LER) et de supprimer les effondrements de motifs, et présente une excellente solubilité en milieu alcalin et une excellente résistance à la gravure.
(JA) 本発明のフォトレジスト組成物は、脂肪族基と芳香環に水酸基を複数個有する芳香族基とが交互に結合しているポリオール化合物と、ビニルエーテル化合物とを含有する。ポリオール化合物は、例えば、脂肪族ポリオールと芳香族ポリオールとの酸触媒反応、例えばFriedel-Crafts反応により得ることができる。脂肪族ポリオールとしては脂環式ポリオールが好ましい。芳香族ポリオールとしてはヒドロキノンが好ましい。  本発明によれば、LERを低減することができ、且つ、アルカリ溶解性、耐エッチング性に優れ、パターン倒れを抑制することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)