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1. (WO2009119827) 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作製方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/119827    国際出願番号:    PCT/JP2009/056350
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 27.03.2009
IPC:
G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAGUCHI, Yoshinori; (米国のみ).
ARIMURA, Keisuke; (米国のみ).
OOHASHI, Hidekazu; (米国のみ).
INNO, Toshifumi; (米国のみ).
MIKOSHIBA, Hisashi; (米国のみ)
発明者: TAGUCHI, Yoshinori; .
ARIMURA, Keisuke; .
OOHASHI, Hidekazu; .
INNO, Toshifumi; .
MIKOSHIBA, Hisashi;
代理人: TAKAMATSU, Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2008-084983 27.03.2008 JP
発明の名称: (EN) ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND METHOD FOR PRODUCTION OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE USING THE SAME
(FR) PLAQUE ORIGINALE POUR PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE À L’AIDE DE LA PLAQUE ORIGINALE
(JA) 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作製方法
要約: front page image
(EN)Disclosed are: an original plate for a lithographic printing plate, which can be developed satisfactorily with a developing solution having a pH value of 2 to 10 and has excellent plate wear resistance and stain resistance; and a method for producing a lithographic printing plate by using the original plate. Specifically disclosed are: an original plate for a lithographic printing plate, which has a photosensitive layer comprising the components (A), (B) and (C) shown below; and a method for producing a lithographic printing plate by using the original plate. (A) A copolymer having a repeating unit represented by formula (1) and at least one of a repeating unit represented by formula (2) and a repeating unit represented by formula (3) [in the formulae, A and B independently represent a hetero atom; R and R1 to R9 independently represent a univalent substituent; L represents a bivalent linkage group; X represents a univalent group containing a hydroxy group, an acid group, an alkyleneoxy group, an amide group or an ether group, an amino group, an ammonium group or a salt produced by neutralizing an acid group; and L0 represents a single bond or a bivalent hydrocarbon group]. (B) A compound having an ethylenically unsaturated bond. (C) A polymerization initiator.
(FR)L'invention concerne : une plaque originale pour plaque d'impression lithographique pouvant être développée de façon satisfaisante avec une solution de développement ayant une valeur de pH de 2 à 10 et offrant une excellente résistance à l'usure et aux taches; et un procédé de production d'une plaque d'impression lithographique à l’aide de la plaque originale. L’invention concerne plus précisément : une plaque originale pour plaque d'impression lithographique, comportant une couche photosensible comprenant les composants (A), (B) et (C) indiqués ci-dessous; et un procédé de production d'une plaque d'impression lithographique à l’aide de la plaque originale. (A) Un copolymère ayant une unité de répétition représentée par la formule (1) et au moins une unité de répétition représentée par la formule (2) ou une unité de répétition représentée par la formule (3) [dans ces formules, A et B représentent indépendamment un atome hétéro; R et R1 à R9 représentent indépendamment un substituant univalent; L représente un groupe de liaison bivalente; X représente un groupe univalent contenant un groupe hydroxy, un groupe acide, un groupe alkyleneoxy, un groupe amide ou un groupe éther, un groupe amino, un groupe ammonium ou un sel produit par neutralisation d'un groupe acide; et L0 représente une simple liaison ou un groupe d'hydrocarbure bivalent]. (B) Un composé ayant une liaison éthylénique non saturée. (C) Un initiateur de polymérisation. 
(JA) pH2~10の現像液による良好な現像が可能であり、耐刷性、汚れ性に優れた平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作成方法として、感光層が下記(A)、(B)及び(C)を含有する平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作成方法を提供する。  (A)式(1)の繰り返し単位と、式(2)の繰り返し単位および式(3)の繰り返し単位の少なくもいずれかとを有する共重合体。  A及びBは独立してヘテロ原子を表し、R、R~Rは一価の置換基を表し、Lは二価の連結基を表し、Xはヒドロキシ基、酸基、アルキレンオキシ基、アミド基もしくはエーテル基を含む1価の基、アミノ基、アンモニウム基、または酸基を中和した塩を表す。L0は単結合または2価の炭化水素基を表す。  (B)エチレン性不飽和結合を有する化合物  (C)重合開始剤
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)