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1. (WO2009119784) 環状化合物、環状化合物の製造方法、環状化合物からなるフォトレジスト基材、フォトレジスト組成物、微細加工方法、半導体装置及び装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/119784    国際出願番号:    PCT/JP2009/056218
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 27.03.2009
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), C07C 43/30 (2006.01), C07C 69/736 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
出願人: IDEMITSU KOSAN CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008321 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ISHII, Hirotoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YOMOGITA, Akinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KASHIWAMURA, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OWADA, Takanori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MASUDA, Naoko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ORII, Aya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TOMOTSU, Norio [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ISHII, Hirotoshi; (JP).
YOMOGITA, Akinori; (JP).
KASHIWAMURA, Takashi; (JP).
OWADA, Takanori; (JP).
MASUDA, Naoko; (JP).
ORII, Aya; (JP).
TOMOTSU, Norio; (JP)
代理人: WATANABE, Kihei; Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor, 26, Kanda Suda-cho, 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1010041 (JP)
優先権情報:
2008-087428 28.03.2008 JP
2008-088015 28.03.2008 JP
2008-102095 10.04.2008 JP
2008-184685 16.07.2008 JP
発明の名称: (EN) CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCING CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST BASE MATERIAL COMPRISING CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION, MICROPROCESSING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND APPARATUS
(FR) COMPOSÉ CYCLIQUE, PROCESSUS DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ CYCLIQUE, MATÉRIAU À BASE DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE COMPRENANT CE COMPOSÉ CYCLIQUE, COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE MICROTRAITEMENT, DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR, ET APPAREIL
(JA) 環状化合物、環状化合物の製造方法、環状化合物からなるフォトレジスト基材、フォトレジスト組成物、微細加工方法、半導体装置及び装置
要約: front page image
(EN)A photoresist base material comprising a cyclic compound which is represented by any of formulae (A-1) to (A-3) and has an average degree of substitution with an acid-dissociable dissolution-inhibitive group of 55-90%. In the formulae, R's each is an acid-dissociable dissolution-inhibitive group or hydroxy.
(FR)Matériau à base de résine photosensible comprenant un composé cyclique, qui est représenté par l'une quelconque des formules (A-1) à (A-3) et présente un degré moyen de substitution avec un groupe inhibiteur de dissolution dissociable à l'acide compris entre 55 et 90 %. Dans les formules, les R sont chacun un groupe inhibiteur de dissolution dissociable à l'acide ou hydroxy.
(JA) 下記式(A-1)~(A-3)のいずれかで表される環状化合物であって、式中の複数Rはそれぞれ酸解離性溶解抑止基又は水酸基であり、酸解離性溶解抑止基の平均置換率が55~90パーセントである環状化合物からなるフォトレジスト基材。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)