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1. (WO2009119623) 感光性樹脂およびこれを利用した感光性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/119623    国際出願番号:    PCT/JP2009/055878
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 25.03.2009
IPC:
C08G 63/91 (2006.01), C08F 290/06 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01)
出願人: SOKEN CHEMICAL & ENGINEERING CO., LTD. [JP/JP]; 29-5, Takada 3-chome, Toshima-ku, Tokyo, 1718531 (JP) (米国を除く全ての指定国).
UTSUNOMIYA, Shin [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: UTSUNOMIYA, Shin; (JP)
代理人: THE PATENT CORPORATE BODY OF ONO & CO.; Mitobe Bldg. 4F, 1-13-1, Kandaizumi-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0024 (JP)
優先権情報:
2008-078842 25.03.2008 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME
(FR) RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE COMPRENANT LADITE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂およびこれを利用した感光性樹脂組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive resin which can be produced readily at a low cost, is easy to adjust its cross-linking density and acid value and therefore has a wide variety of use applications, has a high sensitivity, and has excellent patterning properties. The photosensitive resin is produced by adding a compound having reactivity to a carboxylic acid and also having an ethylenically unsaturated group to a polymeric compound, wherein the polymeric compound is produced by reacting a compound represented by general formula (1) with a compound represented by general formula (2). [In general formula (1), Y represents -CO-, -SO2-, -C(CF3)2-, -Si(CH3)2-, -CH2-, -C(CH3)2-, -O-, a cyclohexyl group, a 9,9-fluorenyl group or a direct bond; R1 and R2 independently represent a hydrogen atom or a methyl group; and n and m independently represent a number of 0 to 4.] [In general formula (2), X represents a tetravalent carboxylic acid residue.]
(FR)L'invention concerne une résine photosensible pouvant être produite facilement et à faible coût. Comme il est facile de régler la densité de réticulation et l'indice d'acidité de cette résine, celle-ci présente des applications variées et d'excellentes propriétés de création de motifs. Cette résine photosensible est produite par un procédé consistant à ajouter, à un composé polymère, un composé réagissant avec un acide carboxylique et présentant également un groupe éthyléniquement insaturé, le composé polymère étant produit par la réaction d'un composé de formule générale (1) avec un composé de formule générale (2). Dans la formule générale (1), Y désigne -CO-, -SO2-, -C(CF3)2-, -Si(CH3)2-, -CH2-, -C(CH3)2-, -O-, un groupe cyclohexyle, un groupe 9,9-fluorényle ou une liaison directe; R1et R2 désignent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle; et, n et m désignent indépendamment un nombre compris entre 0 et 4. Dans la formule générale (2), X désigne un résidu d'acide carboxylique tétravalent.
(JA) 低コストで容易に製造することができ、さらに架橋密度や酸価の調整が容易であるため幅広い用途に適用可能であり、高感度でパターニング性に優れる感光性樹脂を提供することを目的とする。当該感光性樹脂は、下記一般式(1)で表される化合物と下記一般式(2)で表される化合物を反応させて得られる高分子化合物に、エチレン性不飽和基を有するカルボン酸反応性化合物を付加させて得られる感光性樹脂である。(式(1)中、Yは-CO-、-SO-、-C(CF-、-Si(CH-、-CH-、-C(CH-、-O-、シクロヘキシル基、9,9-フルオレニル基又は直結合を示し、R、Rは独立に水素原子又はメチル基を示し、n、mは独立に0~4の数を示す。)(式(2)中、Xは4価のカルボン酸残基を示す。)  
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)