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1. (WO2009119485) 金属用研磨液及びこの研磨液を用いた研磨方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/119485    国際出願番号:    PCT/JP2009/055621
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 23.03.2009
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), B24B 37/04 (2012.01), C09K 3/14 (2006.01)
出願人: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo, 1630449 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MINAMI, Hisataka [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKASAWA, Masato [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AMANOKURA, Jin [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MINAMI, Hisataka; (JP).
FUKASAWA, Masato; (JP).
AMANOKURA, Jin; (JP)
代理人: HASEGAWA, Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2008-086311 28.03.2008 JP
2008-195197 29.07.2008 JP
発明の名称: (EN) METAL POLISHING LIQUID AND POLISHING METHOD USING THE POLISHING LIQUID
(FR) LIQUIDE DE POLISSAGE DE MÉTAL ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE UTILISANT LE LIQUIDE DE POLISSAGE
(JA) 金属用研磨液及びこの研磨液を用いた研磨方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a metal polishing liquid containing water, an oxidizing agent, a metal oxide dissolving agent, an anticorrosive agent and a metal oxide dissolution modifier. The polishing liquid has a pH within the range of 1-5, and the anticorrosive agent contains at least tolyltriazole or diphenylguanidine. Also disclosed is a method for polishing a substrate, wherein a substrate is polished by relatively moving a polishing cloth of a polishing plate and the substrate while pressing a surface of the substrate to be polished against the polishing cloth of the polishing plate and supplying the metal polishing liquid between the substrate surface and the polishing cloth.
(FR)L'invention porte sur un liquide de polissage de métal contenant de l'eau, un agent oxydant, un agent de dissolution d'oxyde métallique, un agent anticorrosif et un modificateur de dissolution d'oxyde métallique. Le liquide de polissage a un pH dans la plage de 1 à 5, et l'agent anticorrosif contient au moins du tolyltriazole ou de la diphénylguanidine. L'invention porte également sur un procédé de polissage d'un substrat, dans lequel un substrat est poli par mouvement relatif d'un tissu de polissage d'une plaque de polissage et du substrat tout en pressant une surface du substrat devant être poli contre le tissu de polissage de la plaque de polissage et en amenant le liquide de polissage de métal entre la surface du substrat et le tissu de polissage.
(JA) 本発明の金属用研磨液は、水、酸化剤、酸化金属溶解剤、防食剤及び酸化金属溶解調整剤を含有する研磨液であって、研磨液のpHは、1~5の範囲内であり、防食剤は、トリルトリアゾール及びジフェニルグアニジンの少なくとも一方を含む。本発明の研磨方法は、基板の研磨方法であって、基板の研磨される面を研磨定盤の研磨布に押し付けた状態で、上記金属用研磨液を上記面と研磨布との間に供給しながら、研磨布と基板とを相対的に動かして基板を研磨する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)