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1. (WO2009119365) 成膜装置、及び成膜方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/119365    国際出願番号:    PCT/JP2009/055034
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 16.03.2009
予備審査請求日:    11.12.2009    
IPC:
H01L 21/312 (2006.01), C23C 14/12 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAO, Ken [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HARADA, Muneo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAO, Ken; (JP).
HARADA, Muneo; (JP)
代理人: SUYAMA, Saichi; Kanda Higashiyama Bldg. 1, Kandata-cho 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 1010046 (JP)
優先権情報:
2008-078814 25.03.2008 JP
発明の名称: (EN) FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF FILM DEPOSITION
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT DE FILM ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE FILM
(JA) 成膜装置、及び成膜方法
要約: front page image
(EN)An external heater disposed along the walls of a film deposition vessel is used to heat the walls of the film deposition vessel to or above the vaporizing temperature of a raw-material monomer for forming an organic film. A substrate mounted on a substrate-supporting vessel is heated to a heat polymerization temperature for the raw-material monomer with an internal heater disposed apart from the external heater and near to the substrate-supporting vessel. The raw-material monomer is fed into the film deposition vessel to form the organic film through thermal polymerization occurring on the substrate.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de chauffage externe disposé le long des parois d'un récipient de dépôt de film qui est utilisé pour chauffer les parois du récipient de dépôt de film à ou au-dessus de la température de vaporisation d'un monomère de matière première pour former un film organique. Un substrat monté sur un récipient de support de substrat est chauffé jusqu'à une température de polymérisation thermique pour le monomère de matière première par un dispositif de chauffage interne disposé séparément du dispositif de chauffage externe et à proximité du récipient de support de substrat. Le monomère de matière première est amené dans le récipient de dépôt de film pour former le film organique par polymérisation thermique se produisant sur le substrat.
(JA) 成膜容器の壁面に沿って設けられた外部ヒータによって、前記成膜容器の前記壁面を有機膜の形成に供する原料モノマーの蒸発温度以上に加熱し、前記外部ヒータと離隔し、基板を搭載した基板支持容器に近接して配置された内部ヒータによって、前記基板を前記原料モノマーの熱重合反応温度に加熱し、前記成膜容器内に前記原料モノマーを供給し、前記基板上での熱重合を通じて前記有機膜を形成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)