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World Intellectual Property Organization
1. (WO2009119260) 撮像モジュール

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/119260    国際出願番号:    PCT/JP2009/053971
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 03.03.2009
G03B 17/02 (2006.01), H04N 5/225 (2006.01)
出願人: KYOCERA CORPORATION [JP/JP]; 6, Takeda Tobadono-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto, 6128501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OKADA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OKADA, Hiroshi; (JP)
2008-080818 26.03.2008 JP
(JA) 撮像モジュール
要約: front page image
(EN)Provided is an image pickup module, which is enabled to acquire a highly precise image by reducing the deformation of an image pickup substrate having an image pickup element mounted thereon. An image pickup module (10) comprises an image pickup substrate (6) mounting an image pickup element (7) thereon, a substrate holding plate member (5), and a holder (4). The substrate holding plate member (5) includes substrate fixing units (5b) disposed individually at positions confronting the four corners of the image pickup substrate (6), for fixing the image pickup substrate (6), an opening (5a) having a region (M) opened and defined by the four substrate fixing portions (5b), and holder fixing portions (5c) positioned individually on the longitudinally outer sides of the four substrate fixing portions (5b). The holder (4) is made integral with a lens supporting cylinder portion (3) for supporting a lens unit (1) therein, and has plate member fixing portions (4a) for fixing the holder fixing portions (5c) of the substrate holding plate member (5) individually at their positions confronting the holder fixing portions (5c). The image pickup module (10) causes little compression stress left in the image pickup substrate (6), so that it can acquire the highly precise image.
(FR)L'invention concerne un module analyseur d’images qui est activé pour acquérir une image très précise en réduisant la déformation du substrat sur lequel est monté l'élément analyseur d’images. Le module analyseur d’images (10) comprend un substrat (6) sur lequel sont montés un élément analyseur d’images (7), un élément plaque supportant le substrat (5), et un support (4). L'élément plaque supportant le substrat (5) comprend des unités de fixation de substrat (5b) disposées chacune aux emplacements faisant face aux quatre coins du substrat (6) de façon à fixer le substrat (6), une ouverture (5a) ayant une région (M) ouverte et définie par les quatre parties de fixation du substrat (5b), et des parties de fixation du support (5c) placées chacune sur les côtés extérieurs dans le sens de la longueur des quatre parties de fixation du substrat (5b). Le support (4) est formé d'une pièce avec une partie cylindrique de support d'objectif (3) destiné à supporter une unité d'objectif (1), et possède des parties de fixation de l'élément plaque (4a) destinées à fixer les parties de fixation du support (5c) de l'élément plaque supportant le substrat (5) chacune à un emplacement faisant face aux parties de fixation du support (5c). Grâce au module analyseur d’images (10), peu de contrainte de compression subsiste dans le substrat (6), de telle sorte qu'il puisse acquérir une image d'une haute précision.
(JA) 【課題】 撮像素子が搭載されている撮像基板の変形を少なくして高精度な画像の取得を可能にした撮像モジュールを提供する。  【解決手段】 撮像素子7が搭載された撮像基板6と、撮像基板6の4隅に対向する位置に撮像基板6を固定する基板固定部5bがそれぞれ設けられ、4箇所の基板固定部5bに囲まれた領域Mが開口している開口部5aが設けられているとともに、4箇所の基板固定部5bに対してそれぞれ長手方向の外側に位置するホルダ固定部5cが設けられた基板保持用板材5と、レンズユニット1を内部で支持するレンズ支持用筒部3に一体的に設けられた、基板保持用板材5のホルダ固定部5cと対向する位置にホルダ固定部5cをそれぞれ固定する板材固定部4aが設けられたホルダ4とを具備する撮像モジュール10である。撮像基板6に残留する圧縮応力が発生しにくくなり、高精度な画像の取得が可能となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)