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1. (WO2009119101) コンビナトリアル式プラズマプロセス試験方法及び傾斜プラズマ発生装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/119101    国際出願番号:    PCT/JP2009/001371
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 26.03.2009
IPC:
H05H 1/00 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
出願人: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION NAGOYA UNIVERSITY [JP/JP]; 1, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya-shi, Aichi 4648601 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OSAKA UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka, 5650871 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KYUSHU UNIVERSITY [JP/JP]; 6-10-1, Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka-shi, Fukuoka, 8128581 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HORI, Masaru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SEKINE, Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SETSUHARA, Yuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIRATANI, Masaharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HORI, Masaru; (JP).
SEKINE, Makoto; (JP).
SETSUHARA, Yuichi; (JP).
SHIRATANI, Masaharu; (JP)
代理人: FUJITANI, Osamu; Marunouchi KS Bldg. 16F, 18-25, Marunouchi 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600002 (JP)
優先権情報:
2008-081959 26.03.2008 JP
発明の名称: (EN) COMBINATORIAL TYPE PLASMA PROCESS TESTING METHOD, AND INCLINED PLASMA GENERATING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE TEST D’UN TRAITEMENT AU PLASMA DE TYPE COMBINATOIRE ET DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA INCLINÉ
(JA) コンビナトリアル式プラズマプロセス試験方法及び傾斜プラズマ発生装置
要約: front page image
(EN)Provided is a plasma process testing method for optimizing external conditions therefor easily. Also provided is a small-sized plasma generating device capable of establishing states, in which a plasma density is different by positions, as shown in 4.A, and in which a radical density is different by positions, as shown in 4.B. In this small-sized plasma generating device, an object to be processed by the plasma process and a material-forming substrate are arranged, and the plasma process is executed while measuring the plasma density and the radical density on the surface of the processed object. The resultant products of the plasma process are evaluated by positions thereby deciding the plasma density and the radical density at the positions for the highest evaluations. In another large-sized or batch type plasma process, moreover, the external conditions are adjusted so as to create those optimum plasma density and radical density. These adjustments need no plasma processing of the processed object or the like.
(FR)La présente invention concerne un procédé de test d'un traitement au plasma permettant d'optimiser facilement ses conditions externes. L'invention concerne également un dispositif générateur de plasma de petite taille, susceptible d'établir des états dans lesquels une densité de plasma est différente selon les positions, comme indiqué dans 4.A., et dans lesquels une densité radicalaire est différente selon les positions, comme indiqué dans 4.B. Dans ce dispositif générateur de plasma de petite taille, un objet à traiter par le traitement au plasma et un substrat de formation de matériau sont placés et le traitement au plasma est exécuté tout en mesurant la densité du plasma et la densité radicalaire à la surface de l'objet traité. Les produits qui résultent du traitement au plasma sont évalués par positions, ce qui permet de décider de la densité du plasma et de la densité radicalaire aux positions correspondant aux évaluations les plus élevées. De plus, dans un autre traitement au plasma de grande taille ou de type par lots, les conditions extérieures sont ajustées de manière à créer une densité de plasma et une densité radicalaire optimales. Ces ajustements ne nécessitent aucun traitement au plasma de l'objet traité ou autre.
(JA)【課題】プラズマプロセスの外部条件を容易に最適化する。 【解決手段】本発明によれば、小型のプラズマ発生装置を用い、例えば4.Aに示されるようにプラズマ密度が位置によって異なり、4.Bに示されるようにラジカル密度が位置によって異なる状態を形成できる。そこでこのような小型のプラズマ発生装置に、プラズマプロセスの被処理物や材料形成基板を配置し、当該被処理物等の表面でプラズマ密度やラジカル密度を測定しながらプラズマプロセスを実行する。プラズマプロセスの結果物を位置ごとに評価し、最も評価の高くなる位置でのプラズマ密度やラジカル密度を決定する。この上で、他の、大型或いは一括処理形のプラズマプロセスにおいて、当該最適なプラズマ密度やラジカル密度が生成できるように外部条件を調整する。この調整の際には、被処理物等をプラズマ処理等する必要がない。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)