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1. (WO2009119060) イオン源

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/119060    国際出願番号:    PCT/JP2009/001267
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 23.03.2009
H01J 27/14 (2006.01), H01J 37/08 (2006.01)
出願人: MITSUI ENGINEERING & SHIPBUILDING CO., LTD. [JP/JP]; 6-4, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo, 1048439 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TSUJI, Yasuyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TSUJI, Yasuyuki; (JP)
代理人: GLOBAL IP TOKYO; CARMEL II, 8-3-30, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo, 1600023 (JP)
2008-077943 25.03.2008 JP
発明の名称: (EN) ION SOURCE
(JA) イオン源
要約: front page image
(EN)An ion source (1) comprises a first wall surface (30) in which an opening (20) for leading out an ion beam (B) is provided, a second wall surface (32) extending along the direction of arrangement of magnets (26, 28), and a filament (12). The filament (12) stands from the second wall surface (32) in a direction different from the direction of arrangement of magnets (26, 28) and is turned down, in the center thereof, to form a loop (40) crossing in X-shape without touching. With such an arrangement, ion beam current can be increased without increasing the distance between the magnets, and thereby the filament can be made at a low cost and a highly robust ion source can be supplied.
(FR)L'invention porte sur une source d'ions (1) qui inclut une première surface de paroi (30) dans laquelle une ouverture (20) pour mener vers la sortie un faisceau d'ions (B) est formée, une seconde surface de paroi (32) s'étendant le long de la direction d'agencement d'aimants (26, 28) et un filament (12). Le filament (12) se dresse à partir de la seconde surface de paroi (32) dans une direction différente de la direction d'agencement d'aimants (26, 28) et est replié vers le bas, dans le centre de celui-ci, pour former une boucle (40) avec un croisement en forme de X sans contact. Dans un tel agencement, un courant de faisceau d'ions peut être augmenté sans augmenter la distance entre les aimants, et le filament peut ainsi être fabriqué à un coût faible et une source d'ions hautement robuste peut être fournie.
(JA)本発明のイオン源(1)は、イオンビーム(B)の引き出し用開口部(20)が設けられる第1の壁面(30)と、磁石(26、28)の配置方向に沿って延びる第2の壁面(32)と、フィラメント(12)を備える。フィラメント(12)は、第2の壁面(32)から、磁石(26、28)の配置方向と異なる方向に立設し、その中央部で、接触することなくX状に交差したループ形状(40)を成すように折り返されている。 これにより、磁石間の距離を広げることなくイオンビーム電流を増大させることが可能になると共に、フィラメントを低いコストで作成することや、ロバスト性の高いイオン源を供給することが可能になった。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)