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1. (WO2009118774) 電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板、電解コンデンサ用アルミニウム電極板、およびそれらの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/118774    国際出願番号:    PCT/JP2008/000694
国際公開日: 01.10.2009 国際出願日: 24.03.2008
IPC:
H01G 9/04 (2006.01)
出願人: NIPPON LIGHT METAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 2-20, Higashi-Shinagawa 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo, 1408628 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KATANO, Masahiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ISOBE, Masashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOBAYASHI, Takayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YOSHIDA, Yuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KATANO, Masahiko; (JP).
ISOBE, Masashi; (JP).
KOBAYASHI, Takayuki; (JP).
YOSHIDA, Yuya; (JP)
代理人: YOKOZAWA, Shiro; 1132-18, Shimadachi, Matsumoto-shi, Nagano 3900852 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) ALUMINUM ETCHED PLATE FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR, ALUMINUM ELECTRODE PLATE FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR, AND PROCESS FOR PRODUCING THEM
(FR) PLAQUE GRAVÉE EN ALUMINIUM POUR UN CONDENSATEUR ÉLECTROLYTIQUE, PLAQUE D’ÉLECTRODE EN ALUMINIUM POUR CONDENSATEUR ÉLECTROLYTIQUE, ET LEUR PROCESSUS DE PRODUCTION
(JA) 電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板、電解コンデンサ用アルミニウム電極板、およびそれらの製造方法
要約: front page image
(EN)This invention provides an aluminum etched plate (1) for an electrolytic capacitor, with an etching layer with spongy pits formed on its surface. In this aluminum etched plate (1), since the depth of the etching layer (3) is not less than 70 &mgr;m, the capacitance is high. In the step of etching, since the aluminum plate is not curved, microcracks are substantially absent in the etching layer (3) even when the depth of the etching layer (3) is large. Accordingly, when a solid electrolytic capacitor is produced using an aluminum electrode plate produced by chemically converting the aluminum etched plate (1) for an electrolytic capacitor, leak current is small.
(FR)La présente invention concerne une plaque gravée en aluminium (1) pour un condensateur électrolytique, avec une couche de gravure dont la surface comporte des trous spongieux.  Dans cette plaque gravée en aluminium (1), puisque la profondeur de la couche de gravure (3) n’est pas inférieure à 70 µm, la capacité est élevée.  Dans l’étape de gravure, puisque la plaque d’aluminium n’est pas incurvée, les microfissures sont sensiblement absentes dans la couche de gravure (3), même si la profondeur de la couche de gravure (3) est importante.  Par conséquent, lorsqu’un condensateur électrolytique solide est produit en utilisant une plaque d’électrode en aluminium produite en convertissant chimiquement la plaque gravée en aluminium (1) pour un condensateur électrolytique, le courant de fuite est faible.
(JA) 海綿状ピットを備えたエッチング層が表面に形成された電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板(1)において、エッチング層(3)の深さは70μm以上であるため、静電容量が高い。また、エッチング工程では、アルミニウム板を湾曲させないため、エッチング層(3)が深くても、エッチング層(3)にはマイクロクラックが実質的に存在しない。従って、電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板(1)を化成してなるアルミニウム電極板を用いて固体電解コンデンサを製造した場合、漏れ電流が低い。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)