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1. (WO2009110288) 貫通電極付きキャパシタおよびその製造方法、並びに半導体装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2009/110288 国際出願番号: PCT/JP2009/052195
国際公開日: 11.09.2009 国際出願日: 10.02.2009
IPC:
H01G 4/12 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
G
コンデンサ;電解型のコンデンサ,整流器,検波器,開閉装置,感光装置また感温装置
4
固定コンデンサ;その製造方法
002
細部
018
誘電体
06
固体誘電体
08
無機誘電体
12
セラミック誘電体
出願人: SHIBUYA, Akinobu[JP/JP]; JP (UsOnly)
ISHII, Yasuhiro[JP/JP]; JP (UsOnly)
TAKEMURA, Koichi[JP/JP]; JP (UsOnly)
NEC Corporation[JP/JP]; 7-1, Shiba 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1088001, JP (AllExceptUS)
発明者: SHIBUYA, Akinobu; JP
ISHII, Yasuhiro; JP
TAKEMURA, Koichi; JP
代理人: IEIRI, Takeshi; HIBIKI IP Law Firm Asahi Bldg. 10th Floor 3-33-8, Tsuruya-cho Kanagawa-ku, Yokohama-shi Kanagawa 221-0835, JP
優先権情報:
2008-05416604.03.2008JP
発明の名称: (EN) CAPACITOR HAVING THROUGH ELECTRODE, METHOD FOR MANUFACTURING THE CAPACITOR, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) CONDENSATEUR AYANT UNE ÉLECTRODE DÉBOUCHANTE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DU CONDENSATEUR ET DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 貫通電極付きキャパシタおよびその製造方法、並びに半導体装置
要約:
(EN) Provided are a capacitor which has a through electrode, suppresses manufacture failure and has a high degree of freedom in manufacturing process, a method for manufacturing such capacitor, and a semiconductor device. The capacitor is provided with a substrate (2) having a plurality of through holes (4); through electrodes (7) applied in the through holes (4); an insulating cover film (8) formed on a first main surface (2A) of the substrate (2); a capacitor structure (13) formed on the insulating cover film (8); a protection insulating film (14) covering the capacitor structure (13); and a plurality of connecting pads (15), which are electrically connected with at least a part of the capacitor structure (13) through capacitor connecting vias (20, 21) that penetrate the protection insulating film (14) and are also electrically connected with the corresponding through electrodes (7) through a through electrode connecting via (9) which penetrates the protection insulating film (14) and the insulating cover film (8).
(FR) L'invention concerne un condensateur qui a une électrode débouchante, supprime des erreurs de fabrication et présente un degré élevé de liberté dans le processus de fabrication, un procédé de fabrication d'un tel condensateur et un dispositif à semi-conducteur. Le condensateur comporte un substrat (2) ayant une pluralité de trous débouchants (4) ; des électrodes débouchantes (7) insérées dans les trous débouchants (4) ; un film de couverture isolant (8) formé sur une première surface principale (2A) du substrat (2) ; une structure de condensateur (13) formée sur le film de couverture isolant (8) ; un film isolant de protection (14) recouvrant la structure de condensateur (13) ; et une pluralité de pastilles de connexion (15) qui sont connectées électriquement à au moins une partie de la structure de condensateur (13) par des trous d'interconnexion de condensateur (20, 21) pénétrant dans le film isolant de protection (14) et sont également connectées électriquement aux électrodes débouchantes (7) correspondantes par un trou d'interconnexion d'électrode (9) qui pénètre dans le film isolant de protection (14) et dans le film de couverture isolant (8).
(JA)  製造不良を抑制し、かつ、製造プロセスの自由度の高い貫通電極付きキャパシタ、その製造方法、および半導体装置を提供する。  複数の貫通孔(4)を有する基板(2)と、貫通孔(4)に充填された貫通電極(7)と、基板(2)の第1主面上(2A)上に形成された絶縁性カバー膜(8)と、絶縁性カバー膜8の上に形成されたキャパシタ構造(13)と、キャパシタ構造(13)を覆う保護絶縁膜(14)と、キャパシタ構造(13)の少なくとも一部と、保護絶縁膜(14)を貫通するキャパシタ接続用ビア(20,21)を介して電気的に接続され、かつ、対応する貫通電極(7)と、保護絶縁膜(14)および絶縁性カバー膜(8)を貫通する貫通電極接続用ビア(9)を介して電気的に接続される複数の接続パッド(15)とを備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)