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1. (WO2009110162) 微細構造物の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/110162    国際出願番号:    PCT/JP2009/000062
国際公開日: 11.09.2009 国際出願日: 09.01.2009
IPC:
B29C 59/02 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), B29L 9/00 (2006.01)
出願人: DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; MAINICHI INTECIO. 3-4-5, Umeda, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka, 5300001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MIYAKE, Hiroto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IYOSHI, Shuso [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MIYAKE, Hiroto; (JP).
IYOSHI, Shuso; (JP)
代理人: GOTO, Yukihisa; Minamimorimachi Kyodo Bldg. 2nd Floor, 2-18 Kobai-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka, 5300038 (JP)
優先権情報:
2008-052612 03.03.2008 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF NANOSTRUCTURES
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE NANOSTRUCTURES
(JA) 微細構造物の製造方法
要約: front page image
(EN)A process for production of nanostructures by subjecting a photocurable resin composition for nanoimprinting to nanoimprinting, which comprises the step (1) of forming a coating out of a photocurable resin composition for nanoimprinting which contains a curable compound component comprising a cationically polymerizable compound and/or a radical-polymerizable compound on a substrate and imprinting a pattern on the coating by pressing with a nanostamper at a pressure of 5 to 100MPa and the step (2) of curing the resulting coating to form a nanostructure.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication de nanostructures par la soumission d'une composition de résine photodurcissable pour nanoimpression à une nanoimpression, qui comprend l'étape (1) de formation d'un revêtement à partir d'une composition de résine photodurcissable pour nanoimpression qui contient un composant de composé durcissable comprenant un composé polymérisable par polymérisation cationique et/ou un composé polymérisable par polymérisation par radicaux sur un substrat et impression d'un motif sur le revêtement par pression au moyen d'un nanopoinçon à une pression de 5 à 100 Mpa, et l'étape (2) de durcissement du revêtement résultant pour former une nanostructure.
(JA) (1)カチオン重合性化合物及び/又はラジカル重合性化合物を含む硬化性化合物を含有するナノインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる被膜が、支持体上に形成され、かつナノスタンパを用いた5~100MPaの圧力のプレスによりパターンを転写される工程、及び(2)パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程を含む、ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物にナノインプリント加工を施して微細構造物を得る微細構造物の製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)