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1. (WO2009107524) 光学補償シートの製造方法及び光学補償シート
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/107524    国際出願番号:    PCT/JP2009/052742
国際公開日: 03.09.2009 国際出願日: 18.02.2009
IPC:
G02B 5/30 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), G02F 1/13363 (2006.01)
出願人: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo, 1068620 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIOJIRI, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKI, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NISHIMURA, Hirokazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Syun [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIOJIRI, Kazuhiro; (JP).
OKI, Kazuhiro; (JP).
NISHIMURA, Hirokazu; (JP).
NAKAMURA, Syun; (JP)
代理人: MATSUURA, Kenzo; Matsuura & Associates, P.O. Box 176, Shinjuku Sumitomo Bldg., 6-1, Nishi-shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630239 (JP)
優先権情報:
2008-043116 25.02.2008 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL COMPENSATION SHEET AND OPTICAL COMPENSATION SHEET
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE FEUILLE DE COMPENSATION OPTIQUE ET FEUILLE DE COMPENSATION OPTIQUE
(JA) 光学補償シートの製造方法及び光学補償シート
要約: front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing an optical compensation sheet characterized by comprising the steps of applying an application liquid containing a nematic liquid crystal compound onto an alignment film previously formed on the surface of a long film that is running, aligning the nematic liquid crystal compound by drying the applied layer and thereafter heating the applied layer at a liquid crystal forming temperature T1 (°C), and polymerizing and curing the aligned applied layer, wherein the liquid crystal forming temperature T1 (°C) is in the range of T2-10≤T1
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'une feuille de compensation optique caractérisé en ce qu'il comporte les étapes consistant à appliquer un liquide d'application contenant un composé à cristaux liquides nématiques sur un film d'alignement préalablement formé sur la surface d'un long film qui défile, à aligner le composé à cristaux liquides nématiques en séchant la couche appliquée, puis à chauffer la couche appliquée à une température de formation de cristaux liquides T1 (°C), à polymériser et durcir la couche appliquée alignée, la température de formation de cristaux liquides T1 (°C) se situant dans la plage de T2-10≤T1<T2 quand la température de transition entre la phase liquide et la phase de cristaux liquides du composé à cristaux liquides nématiques est égale à T2 (°C), et le temps de chauffage dure au moins 25 secondes.
(JA) 本発明の一の態様は、走行する長尺状フィルムの表面に予め形成された配向膜上に、ネマティック液晶性化合物を含む塗布液を塗布する工程と、該塗布層を乾燥した後、液晶形成温度T1(°C)で加熱することにより前記ネマティック液晶性化合物を配向させる工程と、該配向させた塗布層を重合及び硬化させる工程とを備えた光学補償シートの製造方法において、前記液晶形成温度T1(°C)は、前記ネマティック液晶性化合物の液体-液晶相転移温度をT2(°C)としたとき、T2-10≦T1<T2の範囲とし、且つ前記加熱時間を少なくとも25秒維持することを特徴とする光学補償シートの製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)