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1. (WO2009107334) 研磨ヘッド及び研磨装置並びに研磨方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/107334    国際出願番号:    PCT/JP2009/000593
国際公開日: 03.09.2009 国際出願日: 16.02.2009
IPC:
B24B 37/30 (2012.01)
出願人: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. [JP/JP]; 6-2, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1000004 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIN-ETSU ENGINEERING CO., LTD. [JP/JP]; 9, Kanda Nishikicho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1010054 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ARIGA, Yasuharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SATO, Michito [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUBOTA, Toshimasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUDA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ARIGA, Yasuharu; (JP).
SATO, Michito; (JP).
KUBOTA, Toshimasa; (JP).
MATSUDA, Takahiro; (JP)
代理人: YOSHIMIYA, Mikio; 1st Shitaya Bldg. 8F, 6-11, Ueno 7-chome, Taito-ku, Tokyo 110-0005 (JP)
優先権情報:
2008-049963 29.02.2008 JP
発明の名称: (EN) POLISHING HEAD, AND POLISHING DEVICE AND POLISHING METHOD
(FR) TÊTE DE POLISSAGE, DISPOSITIF DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研磨ヘッド及び研磨装置並びに研磨方法
要約: front page image
(EN)The invention discloses a polishing head for holding a workpiece when said workpiece is to be polished by rubbing it against polishing cloths adhered to surface plates, said polishing head being characterized by possessing at least a carrier to hold the aforementioned workpiece, a first pressure-regulating mechanism to press the outside periphery of said carrier, and a second pressure-regulating mechanism to press the center of said carrier, whereby the aforementioned first pressure-regulating mechanism and the aforementioned second pressure-regulating mechanism can each press the aforementioned carrier independently. Thus, when the aforementioned workpiece is polished by rubbing it against the aforementioned polishing cloths, said carrier can vary the pressure against the aforementioned workpiece at the inside and outside within the plane of said carrier, and the aforementioned wafer can be rubbed against the aforementioned polishing cloths with different pressures at the inside and outside within the plane of said wafer. Thus, a polishing head is provided with which the overall shape of the workpiece can be freely controlled by polishing.
(FR)L'invention concerne une tête de polissage destinée à maintenir une pièce de travail lorsque ladite pièce de travail doit être polie en la frottant contre des toiles de polissage collées à des plaques de surface, ladite tête de polissage étant caractérisée en ce qu'elle possède au moins un support destiné à maintenir la pièce de travail susmentionnée, un premier mécanisme régulateur de pression servant à appuyer sur la périphérie extérieure dudit support et un deuxième mécanisme régulateur de pression servant à appuyer sur le centre dudit support, chacun des premier et deuxième mécanismes régulateurs de pression susmentionnés étant capable d'appuyer indépendamment sur le support susmentionné. Ainsi, lorsque la pièce de travail susmentionnée est polie en la frottant contre les toiles de polissage susmentionnées, ledit support peut faire varier la pression exercée contre la pièce de travail susmentionnée de l'intérieur et de l'extérieur dans le plan dudit support, et la tranche en question peut être frottée contre les toiles de polissage susmentionnées avec des pressions différentes à l'intérieur et à l'extérieur dans le plan de ladite tranche. On obtient ainsi une tête de polissage avec laquelle la forme d'ensemble de la pièce de travail peut être contrôlée à volonté par polissage.
(JA) 本発明は、ワークの表面を定盤上に貼り付けた研磨布に摺接させて研磨する際に前記ワークを保持するための研磨ヘッドであって、少なくとも、前記ワークを保持するためのキャリアと、該キャリアの外周部を押圧するための第一の圧力調整機構と、該キャリアの中央部を押圧するための第二の圧力調整機構とを有し、前記第一の圧力調整機構と前記第二の圧力調整機構は各々独立に前記キャリアを押圧することができ、これによって、該キャリアは、前記ワークを前記研磨布に摺接させて研磨する際に、該キャリア面内の内外で前記ワークへの押圧力が異なるようにすることができ、前記ウェーハ面内の内外で異なる押圧力で前記研磨布へ摺接させることができるものであることを特徴とする研磨ヘッドである。これにより、ワークのグローバル形状を研磨によって自由にコントロールすることのできる研磨ヘッドが提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)