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1. (WO2009107250) 常温接合装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/107250    国際出願番号:    PCT/JP2008/054344
国際公開日: 03.09.2009 国際出願日: 11.03.2008
H01L 21/02 (2006.01), B23K 20/00 (2006.01), B23K 20/14 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 16-5, Konan 2-Chome, Minato-ku Tokyo, 1088215 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TSUNO, Takeshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
GOTO, Takayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KINOUCHI, Masato [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAWARA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
UTSUMI, Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TSUMURA, Yoichiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IDE, Kensuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Takenori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TSUNO, Takeshi; (JP).
GOTO, Takayuki; (JP).
KINOUCHI, Masato; (JP).
TAWARA, Satoshi; (JP).
UTSUMI, Jun; (JP).
TSUMURA, Yoichiro; (JP).
IDE, Kensuke; (JP).
SUZUKI, Takenori; (JP)
代理人: KUDOH, Minoru; 6F, KADOYA BLDG., 24-10, Minamiooi 6-chome, Shinagawa-ku Tokyo 1400013 (JP)
2008-050551 29.02.2008 JP
(JA) 常温接合装置
要約: front page image
(EN)A cold joining device has an angle adjusting mechanism for supporting a first sample base, which holds a first substrate, on a first stage so that the direction of the first sample base can be changed, a first driving device for driving in the first direction the first stage, a second driving device for driving in the second direction a second sample base for holding a second substrate, and a carriage support base for supporting the second sample base in the first direction when the second substrate is pressed against the first substrate. The cold joining device can apply a large load exceeding the load bearing capacity of the second driving device to the first substrate and the second substrate. Also, the cold joining device can change, by using the angle adjusting mechanism, the direction of the first substrate so that the first substrate and the second substrate are in parallel contact with each other, and thus the large load can be uniformly applied to the joined surfaces between the substrates.
(FR)Un dispositif d'assemblage à froid présente un mécanisme de réglage d'angle destiné à supporter une première base d'échantillon, qui tient un premier substrat, sur un premier étage, de telle sorte que la direction de la première base d'échantillon puisse être modifiée ; un premier dispositif de d'entraînement destiné à entraîner, dans la première direction, le premier étage ; un second dispositif d'entraînement destiné à entraîner, dans la seconde direction, une seconde base d'échantillon destinée à tenir un second substrat ; et une base de support de chariot destinée à supporter la seconde base d'échantillon dans la première direction, lorsque le second substrat est pressé contre le premier substrat. Le dispositif d'assemblage à froid peut appliquer une grande charge qui dépasse la capacité de port de charge du second dispositif d'entraînement sur le premier substrat et sur le second substrat. En outre, le dispositif d'assemblage à froid peut modifier, à l'aide du mécanisme de réglage d'angle, la direction du premier substrat de telle sorte que le premier substrat et le second substrat se trouvent en contact parallèle l'un avec l'autre. Ainsi, la grande charge peut être appliquée de manière uniforme sur les surfaces assemblées entre les substrats.
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)