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1. (WO2009093706) 感光性樹脂積層体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/093706    国際出願番号:    PCT/JP2009/051111
国際公開日: 30.07.2009 国際出願日: 23.01.2009
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: Asahi Kasei E-materials Corporation [JP/JP]; 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo, 1018101 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOTANI, Yuzo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOTANI, Yuzo; (JP)
代理人: AOKI, Atsushi; SEIWA PATENT & LAW, Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo, 1058423 (JP)
優先権情報:
2008-013663 24.01.2008 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂積層体
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive resin laminate which has excellent resolution and excellent adhesion to various bases such as polysilicon, amorphous silicon, copper, molybdenum, chromium and tungsten, while having good developability, excellent etching properties and excellent separability. Specifically disclosed is a photosensitive resin laminate wherein at least a supporting layer, at least one of a release layer (a), an alkali-soluble resin layer (b) and a water-soluble resin layer (c), and a photosensitive resin layer composed of a photosensitive resin composition are sequentially laminated. The photosensitive resin laminate is characterized in that the photosensitive resin composition contains 20-90% by mass of an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, 0.01-5% by mass of a photoacid generator, 1-40% by mass of a compound having a group which is crosslinked by the action of an acid, and 1-40% by mass of a plasticizer.
(FR)L'invention porte sur un stratifié de résine photosensible présentant une excellente résolution et une excellente adhésion à diverses bases, telles que le polysilicium, le silicium amorphe, le cuivre, le molybdène, le chrome et le tungstène, ainsi qu'une bonne aptitude au développement, d'excellentes propriétés d'attaque et une excellente aptitude à la séparation. De manière spécifique, l'invention porte sur un stratifié de résine photosensible dans lequel sont séquentiellement stratifiées au moins une couche de support, au moins une couche de libération (a) ou une couche de résine soluble dans les alcalins (b) ou une couche de résine soluble dans l'eau (c), et une couche de résine photosensible composée d'une composition de résine photosensible. Le stratifié de résine photosensible est caractérisé en ce que la composition de résine photosensible contient 20-90 % en poids d'une résine soluble dans les alcalins ayant un groupe hydroxyl phénolique, 0,01-5 % en poids d'un générateur photoacide, 1-40 % en poids d'un composé ayant un groupe qui est réticulé par l'action d'un acide et 1-40 % en poids d'un plastifiant.
(JA) ポリシリコン、アモルファスシリコン、銅、モリブデン、クロム、タングステンなどの様々な基材に対して優れた解像度と密着性を有し、良好な現像性を有し、エッチング性及び剥離性に優れた感光性樹脂積層体の提供。本発明に係る感光性樹脂積層体は、少なくとも、支持層と、下記(a)~(c):(a)離型層、(b)アルカリ可溶性樹脂層、(c)水溶性樹脂層、に示される層から選ばれる少なくとも一つの層と、感光性樹脂組成物よりなる感光性樹脂層とを順に積層してなる感光性樹脂積層体であって、該感光性樹脂組成物が、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂20~90質量%、光酸発生剤0.01~5質量%、酸の作用により架橋する基を有する化合物1~40質量%、可塑剤1~40質量%を含有することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)