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1. (WO2009090994) 基板ステージ、これを備えたスパッタ装置及び成膜方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/090994    国際出願番号:    PCT/JP2009/050464
国際公開日: 23.07.2009 国際出願日: 15.01.2009
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/14 (2006.01), G11B 5/39 (2006.01), H01L 43/08 (2006.01), H01L 43/12 (2006.01)
出願人: ULVAC, Inc. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KIKUCHI, Yukio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHEN, Guo Hua [CN/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KIKUCHI, Yukio; (JP).
SHEN, Guo Hua; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
優先権情報:
2008-005993 15.01.2008 JP
2008-027719 07.02.2008 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE STAGE, SPUTTERING APPARATUS PROVIDED WITH SUBSTRATE STAGE, AND FILM FORMING METHOD
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT, APPAREIL DE PULVÉRISATION CATHODIQUE COMPORTANT UN SUPPORT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 基板ステージ、これを備えたスパッタ装置及び成膜方法
要約: front page image
(EN)Provided is a substrate stage which is arranged in a vacuum container and has a substrate placing surface whereupon a substrate is to be placed. The substrate stage is provided with a first magnetic field applying means which applies a magnetic field to the substrate. A magnetization direction inside the first magnetic field applying means and the thickness direction of the substrate accord with each other.
(FR)L'invention porte sur un support de substrat qui est disposé dans un conteneur sous vide et qui comporte une surface de disposition de substrat sur laquelle un substrat doit être disposé. Le support de substrat comporte des premiers moyens d'application de champ magnétique qui appliquent un champ magnétique au substrat. Une direction de magnétisation à l'intérieur des premiers moyens d'application de champ magnétique et la direction de l'épaisseur du substrat concordent l'une avec l'autre.
(JA) 真空容器内に配置され、基板が載置される基板載置面を有する基板ステージであって、前記基板に対して磁場を印加する第1磁場印加手段を備え、前記第1磁場印加手段の内部の磁化方向と前記基板の厚さ方向とが一致する基板ステージ。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)