WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2009090839) 成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/090839    国際出願番号:    PCT/JP2008/073430
国際公開日: 23.07.2009 国際出願日: 24.12.2008
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/50 (2006.01), C23C 16/04 (2006.01)
出願人: TOKKI CORPORATION [JP/JP]; 21-2, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KONDO, Yoshinari [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Kentaro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUMOTO, Eichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAJIMA, Miyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KONDO, Yoshinari; (JP).
SUZUKI, Kentaro; (JP).
MATSUMOTO, Eichi; (JP).
TAJIMA, Miyuki; (JP)
代理人: YOSHII, Takeshi; 5-8, Johnai-cho 3-chome Nagaoka-shi Niigata 9400061 (JP)
優先権情報:
2008-007106 16.01.2008 JP
発明の名称: (EN) FILM-FORMING APPARATUS
(FR) APPAREIL FILMOGÈNE
(JA) 成膜装置
要約: front page image
(EN)Provided is a film-forming apparatus capable of lapping and fixing a substrate and a weight member or a magnet member satisfactorily while keeping reliably the lapping state of the substrate and a mask positioned precisely. The film-forming apparatus comprises a film-forming mask (5), and film-forming means for forming a thin film on the surface of a substrate (6) overlapped by the film-forming mask (5). Further comprised are a positioning mechanism for positioning the film-forming mask (5) and the substrate (6) by moving the film-forming mask (5) and the substrate (6) relative to each other, a first lapping-fixing mechanism for lapping and fixing the film-forming mask (5) and the substrate (6) positioned by the positioning mechanism, and a second lapping-fixing mechanism for lapping and fixing the substrate (6), which has been lapped and fixed on the film-forming mask (5) by the first lapping-fixing mechanism, and either a sheet-shaped weight member (8), which is arranged on the back side of the substrate (6) for warping and closely-lapping the substrate (6) on the film-forming mask (5), or a magnet member (14) for attracting the film-forming mask (5) magnetically to the surface side of the substrate (6) thereby to lap the film-forming mask (5) closely on the substrate (6).
(FR)Cette invention concerne un appareil filmogène apte à superposer et à fixer un substrat et un élément de charge ou un élément aimanté de manière satisfaisante tout en assurant l'état de recouvrement du substrat et d'un masque dans un positionnement précis. L'appareil filmogène comprend un masque filmogène (5) et des moyens filmogènes pour former un film mince sur la surface d'un substrat (6) chevauché par le masque filmogène (5). Ledit appareil comprend en outre un mécanisme de positionnement pour positionner le masque filmogène (5) et le substrat (6) en déplaçant le masque filmogène (5) et le substrat (6) l'un par rapport à l'autre, un premier mécanisme de recouvrement-fixation pour superposer et fixer le masque filmogène (5) et le substrat (6) positionnés par le mécanisme de positionnement, et un second mécanisme de recouvrement-fixation pour superposer et fixer le substrat (6), qui a été recouvert et fixé sur le masque filmogène (5) par le premier mécanisme de recouvrement-fixation, et soit un élément de charge en forme de feuille (8), qui est disposé sur le côté arrière du substrat (6) pour tasser et superposer de manière serrée le substrat (6) sur le masque filmogène (5), soit un élément aimanté (14) pour attirer le masque filmogène (5) magnétiquement sur le côté superficiel du substrat (6) pour superposer ainsi de manière serrée le masque filmogène (5) au substrat (6).
(JA) 精密に位置合わせした基板とマスクとの重合状態を確実に維持しつつこの基板と重り部材や磁石体とを良好に重合固定することが可能な成膜装置の提供。成膜用マスク5とこの成膜用マスク5を重合した基板6の表面に薄膜を成膜する成膜手段とを備えた成膜装置であって、成膜用マスク5と基板6とを相対的に移動せしめて成膜用マスク5と基板6との位置合わせを行う位置合わせ機構と、この位置合わせ機構により位置合わせした成膜用マスク5と基板6とを重合固定する第一の重合固定機構と、この第一の重合固定機構により成膜用マスク5に重合固定された基板6とこの基板6の裏面側に配設され基板6を撓ませて成膜用マスク5に基板6を密着重合せしめるシート状の重り部材8または成膜用マスク5を基板6の表面側に磁気的に吸引して基板6に成膜用マスク5を密着重合せしめる磁石体14とを重合固定する第二の重合固定機構とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)