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1. (WO2009090774) 銅含有酸性廃液からの銅の除去回収方法及び装置並びに銅含有物の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/090774    国際出願番号:    PCT/JP2008/065919
国際公開日: 23.07.2009 国際出願日: 28.08.2008
IPC:
C22B 15/00 (2006.01), C02F 1/62 (2006.01), C02F 1/72 (2006.01), C22B 3/44 (2006.01), C22B 7/00 (2006.01)
出願人: EBARA ENGINEERING SERVICE CO., LTD. [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448610 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOBAYASHI, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SATO, Kaori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUBOTA, Yoko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOBAYASHI, Atsushi; (JP).
SUZUKI, Toshihiro; (JP).
SATO, Kaori; (JP).
KUBOTA, Yoko; (JP)
代理人: WATANABE, Isamu; GOWA Nishi-Shinjuku 4F 5-8, Nishi-Shinjuku 7-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
優先権情報:
2008-006195 15.01.2008 JP
発明の名称: (EN) METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING/RECOVERING COPPER FROM COPPER-CONTAINING ACIDIC WASTE LIQUID AND PROCESS FOR PRODUCING COPPER-CONTAINING SUBSTANCE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'EXTRACTION/RÉCUPÉRATION DE CUIVRE DANS DES LIQUIDES RÉSIDUAIRES ACIDES CONTENANT DU CUIVRE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE SUBSTANCE CONTENANT DU CUIVRE
(JA) 銅含有酸性廃液からの銅の除去回収方法及び装置並びに銅含有物の製造方法
要約: front page image
(EN)A method and an apparatus in which an acidic waste liquid containing copper ions, such as, e.g., an etching waste liquid resulting from the etching of a copper-clad substrate with a cupric chloride etchant or a waste liquid resulting from plating bath replacement with a fresh one in producing an electrolytic copper foil. The method, which is for removing/recovering copper from an copper-containing acidic waste liquid, comprises: pouring a liquid mixture of the copper-containing acidic waste liquid and an oxidizing agent into an alkali solution while regulating the pH of the alkali solution after addition of the liquid mixture so as not to decrease to 7 or lower even temporarily; and isolating the resultant solid matter containing copper oxide as a main component.
(FR)Procédé et appareil dans lesquels un liquide résiduaire acide contenant des ions cuivre, comme par exemple un liquide résiduaire de gravure chimique résultant de la gravure d'un substrat stratifié cuivré au moyen d'un agent de gravure au chlorure cuivrique ou un liquide résiduaire résultant du remplacement d'un bain de dépôt par un nouveau bain lors de la production d'une feuille de cuivre électrolytique. Le procédé, qui vise à extraire/récupérer du cuivre dans un liquide résiduaire acide contenant du cuivre, comprend les étapes consistant à : verser un mélange liquide du liquide résiduaire acide contenant du cuivre ainsi qu'un agent oxydantdans une solution alcaline tout en régulant le pH de la solution alcaline suite à l'adjonction du mélange liquide de sorte à ce qu'il ne soit jamais inférieur ou égal à 7, ne serait-ce que provisoirement; et isoler les matières solides qui en résultent et qui contiennent de l'oxyde de cuivre en tant que composant principal.
(JA)本発明は、例えば銅プリント基板を塩化第二銅エッチング液でエッチングする際に生じるエッチング廃液や電解銅箔製造におけるメッキ浴液の更新廃液などの銅イオンを含有する酸性廃液を処理して銅を除去回収する方法および装置に関するものである。本発明は、銅含有酸性廃液と酸化剤との混合液をアルカリ剤溶液に、混合液注加後のアルカリ剤溶液のpHが一時的にでも7以下に下がらないよう管理しつつ注加し、生成する酸化銅を主成分とする固形物を取得する銅含有酸性廃液からの銅の除去回収方法である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)