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1. (WO2009084442) 熱線反射ガラス、および熱線反射ガラスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/084442    国際出願番号:    PCT/JP2008/073013
国際公開日: 09.07.2009 国際出願日: 17.12.2008
IPC:
C03C 17/34 (2006.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAOITA, Kazuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KATAYAMA, Yoshihito [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAOITA, Kazuya; (JP).
KATAYAMA, Yoshihito; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square 17, Kanda-Konyacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
優先権情報:
2007-336133 27.12.2007 JP
発明の名称: (EN) HEAT REFLECTING GLASS AND PROCESS FOR PRODUCING HEAT REFLECTING GLASS
(FR) VERRE THERMORÉFLÉCHISSANT ET PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION D'UN VERRE THERMORÉFLÉCHISSANT
(JA) 熱線反射ガラス、および熱線反射ガラスの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a heat reflecting glass comprising at least a chromium nitride film that has a visible light transmittance (Tv) of not more than 35% and a solar transmittance Te/visible light transmittance Tv value of less than 1.0 and causes little or no change in optical properties even after heat treatment for strengthening or bending. An oxygen-blocking substrate film formed of silicon nitride is provided on a surface of a glass substrate. A chromium nitride film for heat reflection is provided, on the oxygen-blocking substrate film, as a layer overlaying the oxygen-blocking substrate film, and, further, an oxygen-blocking protective film formed of silicon nitride is provided, on the chromium nitride film, as a layer overlaying the chromium nitride film. The ratio of the number of nitrogen atoms to the number of chromium atoms in the chromium nitride for heat reflection is 20% to 60%.
(FR)L'invention concerne un verre thermoréfléchissant qui comprend au moins un film de nitrure de chrome dont la transmittance dans la lumière visible (Tv) n'est pas supérieure à 35 %, dont le rapport entre la transmittance solaire Te et la transmittance dans la lumière visible Tv est inférieur à 1,0 et qui n'entraîne pas ou peu de modifications de propriétés optiques même après un traitement thermique de trempe ou de bombage. Un film de substrat de blocage d'oxygène formé de nitrure de silicium est prévu sur une surface d'un substrat en verre. Un film de nitrure de chrome thermoréfléchissant est prévu sur le film de substrat de blocage d'oxygène comme couche superposée au film de substrat de blocage d'oxygène et en outre, un film protecteur de blocage d'oxygène formé de nitrure de silicium est prévu sur le film de nitrure de chrome sous la forme d'une couche superposée au film de nitrure de chrome. Le rapport entre le nombre d'atomes d'azote et le nombre d'atomes de chrome dans le nitrure de chrome thermoréfléchissant est compris entre 20 % et 60 %.
(JA) 可視光透過率Tが35%以下、かつ日射透過率T/可視光透過率Tが1.0未満であり、かつ、強化や曲げ加工のための熱処理を加えても光学特性が殆ど変化しない、少なくとも窒化クロム膜が設けられた熱線反射ガラスを提供する。  ガラス基板の表面に、窒化シリコンからなる酸素遮断下地膜を設け、この酸素遮断下地膜の上層に熱線反射用の窒化クロム膜を設け、さらに、窒化クロム膜の上層に窒化シリコンからなる酸素遮断保護膜を設ける。この熱線反射用の窒化クロムの、クロム原子に対する窒素原子数の割合を20%~60%とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)